役員の状況
中村久三
2020年3月の株式保有割合0.043%(前回報告+0.003%、16,000株)
- 2014年3月
取締役 - 0%
0株 - 2015年3月
取締役 - 0.003%
1,000株 - 2016年3月+0.003%
取締役 - 0.006%
2,000株 - 2017年3月+0.004%
取締役 - 0.01%
3,000株 - 2018年3月+0.028%
取締役 - 0.038%
14,000株 - 2019年3月+0.002%
取締役 - 0.04%
15,000株 - 2020年3月+0.003%
取締役 - 0.043%
16,000株
略歴
1974年10月 | 日本真空技術㈱(現㈱アルバック)入社 |
1988年7月 | 同社千葉超材料研究所長 |
1990年9月 | 同社取締役 |
1994年7月 | 同社常務取締役 |
1996年7月 | 同社第1半導体装置事業部長 |
1996年9月 | 同社代表取締役社長 |
2006年9月 | 同社代表取締役会長 |
2012年7月 | 同社取締役相談役 |
2012年9月 | 同社取締役退任 |
2013年6月 | 当社社外取締役(現任) |
2017年9月 | 杭州中欣晶圓半導体股份有限公司董事(現任) |
その他
- 生年月日
- 1947年2月24日