6728 アルバック

6728
2026/06/18
時価
4957億円
PER 予
26.7倍
2010年以降
赤字-65.79倍
(2010-2025年)
PBR
2.15倍
2010年以降
0.39-3.22倍
(2010-2025年)
配当 予
1.51%
ROE 予
8.06%
ROA 予
4.73%
資料
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CSV,JSON

アルバック(6728)の全事業営業利益又は全事業営業損失(△) - 真空応用事業の推移 - 通期

【期間】

連結

2013年6月30日
5億8800万
2014年6月30日 +509.01%
35億8100万
2015年6月30日 -9.72%
32億3300万
2016年6月30日 -10.39%
28億9700万
2017年6月30日 -10.25%
26億
2018年6月30日 +13.73%
29億5700万
2019年6月30日 +0.98%
29億8600万
2020年6月30日 -44.21%
16億6600万
2021年6月30日 +28.81%
21億4600万
2022年6月30日 +36.53%
29億3000万
2023年6月30日 +14.51%
33億5500万
2024年6月30日 +6.2%
35億6300万
2025年6月30日 +27.22%
45億3300万

有報情報

#1 セグメント情報等、連結財務諸表(連結)
当社の報告セグメントは、当社の構成単位のうち分離された財務情報が入手可能であり、最高経営意思決定機関が経営資源の配分の決定及び業績を評価するために、定期的に検討を行う対象となっているものであります。
当社は、事業構成単位(ビジネスユニット)を基礎とした製品・サービス別のセグメントから構成されており、「真空機器事業」及び「真空応用事業」を報告セグメントとしております。
「真空機器事業」は、液晶ディスプレイ用スパッタリング装置、有機EL製造装置、巻取式真空蒸着装置、半導体製造用スパッタリング装置、真空ポンプ、計測機器などの製品から構成されており、これらの開発・製造・販売・保守サービスなどを行っております。
2025/09/26 15:47
#2 事業の内容
当社グループは、当社、子会社37社、関連会社8社からなり、真空技術が利用されているさまざまな産業分野に多岐に渡る製品を生産財として提供している真空総合メーカーであります。
事業内容は、真空技術を基盤として、真空装置・機器やサービスを提供する真空機器事業と真空技術の周辺技術を基盤として、主に材料や表面分析装置等を提供する真空応用事業に区分できます。
各々の事業区分ごとの主要製品は下表のとおりであります。
2025/09/26 15:47
#3 会計方針に関する事項(連結)
① 主要な事業における主な履行義務の内容
当社グループは真空技術を基盤として、液晶ディスプレイ用スパッタリング装置、有機EL製造装置、巻取式真空蒸着装置、半導体製造用スパッタリング装置、真空ポンプ、計測機器に代表される真空装置、コンポーネント等を提供する真空機器事業と、真空技術の周辺技術を基盤として、スパッタリングターゲット材料、分析機器等を提供する真空応用事業に区分され、両事業とも装置、機器、材料の提供を主な履行義務として識別しております。
② 履行義務を充足する通常の時点(収益を認識する通常の時点)
2025/09/26 15:47
#4 従業員の状況(連結)
(1)連結会社の状況
(2025年6月30日現在)
真空機器事業4,505
真空応用事業936
全社(共通)691
(注)1.従業員数は、当社グループから当社グループ外への出向者を除き、当社グループ外から当社グループへの出向者を含む就業人員であります。
2.全社(共通)として記載されている従業員数は、管理部門に所属しているものであります。
2025/09/26 15:47
#5 研究開発活動
さらに、主に有機ELディスプレイ製造装置に搭載されるクライオポンプ、量子コンピュータや医療関連に使用する極低温冷凍機の開発も進めており、次世代半導体やヘルスケア分野などの幅広い分野に真空機器が貢献しております。
(真空応用事業)
スパッタリングターゲット材料をはじめとする先端材料、表面分析装置やマスクブランクスの開発を行っており、当セグメントに係る研究開発費は1,294百万円となりました。
2025/09/26 15:47
#6 経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析(連結)
その結果、真空機器事業の受注高は1,734億30百万円、受注残高は983億50百万円、売上高は1,990億50百万円となり、218億77百万円の営業利益となりました。
真空応用事業
真空応用事業を品目別に見ますと下記のとおりです。
2025/09/26 15:47
#7 設備投資等の概要
真空機器事業につきましては、半導体及び電子部品製造装置、ディスプレイ・エネルギー関連製造装置それぞれの事業の評価用機械装置や研究開発用機械装置等に、13,192百万円の投資を行いました。
真空応用事業につきましては、マスクブランクス製造用設備等に、2,523百万円の投資を行いました。
また、当連結会計年度において重要な設備の除却、売却等はありません。
2025/09/26 15:47
#8 重要な会計方針、財務諸表(連結)
(1)主要な事業における主な履行義務の内容
当社は真空技術を基盤として、液晶ディスプレイ用スパッタリング装置、有機EL製造装置、巻取式真空蒸着装置、半導体製造用スパッタリング装置、真空ポンプ、計測機器に代表される真空装置、コンポーネント等を提供する真空機器事業と、真空技術の周辺技術を基盤として、スパッタリングターゲット材料、分析機器等を提供する真空応用事業に区分され、両事業とも装置、機器、材料の提供を主な履行義務として識別しております。
(2)履行義務を充足する通常の時点(収益を認識する通常の時点)
2025/09/26 15:47

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