有価証券報告書-第24期(平成30年4月1日-平成31年3月31日)

当社グループは、当社(株式会社ニューフレアテクノロジー)及び子会社2社により構成されており、電子ビームマスク描画装置、マスク検査装置、エピタキシャル成長装置の3製品を中心とした半導体製造装置の開発、製造、販売、保守サービスを主たる事業として行っております。
各製品の特徴は、次のとおりであります。
(1)電子ビームマスク描画装置
電子ビームマスク描画装置は、LSI(大規模集積回路)製造工程において、電子ビームを用いてナノ・オーダーの微細な電子回路パターンを回路原板(フォトマスク)となる感光剤を塗布した石英ガラス基板上に描画する装置です。電子ビーム描画制御技術をコアの技術として、精密機械制御技術、大規模データ処理技術、高速・高精度アナログ回路技術等、多様で、かつ、高度に専門化された先端要素技術を結集した装置です。LSIの高機能化、省電力化のためにはLSI単位面積当たりに搭載できる電子回路の密度を上げることが重要課題となっています。電子ビームを高度に制御する電子ビームマスク描画装置は、先端半導体デバイスの開発において性能向上とコストダウンに大きく貢献しています。
(2)マスク検査装置
マスク検査装置は、フォトマスクと呼ばれるLSIの原版に形成された電子回路パターンを検査する装置で、紫外線の中でもより短波長である深紫外レーザを光源とした光学技術をコアとして、画像処理、欠陥検出処理、機械制御、ソフトウエア等の先端技術を融合して構成されております。当社のマスク検査装置は上記電子ビームマスク描画装置で描画・製造された回路原板(フォトマスク)を高速で検査し、微細化が進むLSIの歩留まり向上に貢献しております。
(3)エピタキシャル成長装置
エピタキシャル成長装置は、半導体製造の基板材料であるシリコンウェハ上に、下地の基板の結晶面にそろえてシリコン単結晶を成長させる装置です。パソコンやワークステーションに搭載される高性能MPUには表面に結晶欠陥のほとんどないエピタキシャルウェハが用いられています。地球環境への関心の高まりから近年は電力制御用のパワー半導体の需要が伸びていますが、これにはエピタキシャルウェハが欠かせません。当社のエピタキシャル成長装置は、独自の加熱機構とウェハの高速回転によるガス流れの制御により、高品質なエピタキシャルウェハの高い生産性を特徴としております。
(事業系統図)