法人番号情報

三菱瓦斯化学株式会社

【番号】

9010001008768

【英名】

Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

【読み】

みつびしがすかがく

【所在】

〒100-0005 東京都千代田区丸の内2丁目5番2号

過去の資格情報

職場情報

【URL】

http://www.mgc.co.jp/

【規模】

大企業（2816）

【事業】

メタノール、過酸化水素、キシレンなどの基礎化学品、電子材料、エンジニアリングプラスチックス、電子工業薬品、農医薬品、脱酸素剤エージレスなどの機能製品、その他新素材や新エネルギーなどの開発、製造、加工及び販売。

政府調達・補助金

表彰情報

【表彰】

• 次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定
• ２０１６/厚生労働省

• 次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定
• ２０１６年/厚生労働省

届出認定

【認定】

• ＰＲＴＲ：化学工業、自然科学研究所
• 経済産業大臣/経済産業省

• アルコール事業：許可使用者
• 01年4月1日/経済産業省

• アルコール流通管理システム（名称未登録）
• 01年4月1日/経済産業省

知的財産

【特許】

• ポリカーボネート樹脂組成物及びその成形体
• 15年12月24日出願、C08K 5/3475, C08K 5/3492, C08K 5/357, C08L 33/06, C08L 69/00

• シアン酸エステル化合物及びその製造方法、樹脂組成物、並びに、硬化物
• 15年11月24日出願、C08G 61/02, C08G 65/18, C08J 5/24 CFC, C08K 13/02, C08L 63/00, C08L 63/00 Z, C08L 79/04, C08L 79/04 Z, C08L101/00, C09J 11/06, C09J161/06, C09J163/00, C09J171/00, C09J201/00, H01L 23/14 C, H01L 23/15, H01L 23/29, H01L 23/30 R, H01L 23/31, H05K 1/03, H05K 1/03 610K, H05K 1/03 610L, H05K 1/03 610M

• ポリアミド樹脂組成物、成形品、成形品の製造方法
• 15年11月4日出願、C08G 69/26, C08L 23/08, C08L 77/06

• 樹脂組成物、プリプレグ、金属箔張積層板、樹脂複合シート、及びプリント配線板
• 16年1月27日出願、C08L101/06, H05K 1/03 610L、15年11月4日出願、C08J 5/24 CEZ, C08J 5/24 CFC, C08K 5/3415, C08L 61/06, C08L 63/00, C08L 63/00 Z, C08L 79/00, C08L 79/00 Z, H05K 1/03, H05K 1/03 610K, H05K 1/03 610L, H05K 1/03 610Q, H05K 1/03 610T

• ポリエステル樹脂の製造方法
• 15年7月8日出願、C08G 63/672, C08G 63/78

• 熱可塑性樹脂積層体
• 15年1月14日出願、B32B 27/30, B32B 27/30 A, B32B 27/36, B32B 27/36 102

• ハニカム用基材、ハニカム構造体及びサンドイッチ構造体
• 15年7月29日出願、B32B 3/12, B32B 3/12 B, C08L 23/00, C08L 51/06, C08L 77/00

• 樹脂組成物、プリプレグ、金属箔張積層板、及びプリント配線板
• 15年7月14日出願、B32B 15/08, B32B 15/08 J, B32B 27/20, B32B 27/20 Z, C08J 5/24 CFC, C08K 3/00, C08K 3/34, C08L101/00, H05K 1/03, H05K 1/03 610R, H05K 1/03 630H

• 変性ゴム及びその製造方法、ゴム組成物、並びにタイヤ
• 15年9月4日出願、B60C 1/00, B60C 1/00 A, C07C277/08, C07C281/18 CSP, C08C 19/22, C08F 8/30, C08K 3/00, C08K 3/04, C08K 3/36, C08K 5/54, C08K 5/541, C08L 15/00

• ポリアミドの製造方法
• 15年5月8日出願、C08G 69/28

• 変性ゴム、それを用いたタイヤ用ゴム組成物及びタイヤ
• 15年6月10日出願、B60C 1/00, B60C 1/00 A, C08F 8/30, C08K 3/00, C08K 3/04, C08K 3/36, C08K 5/31, C08K 5/54, C08L 15/00, C08L 21/00, C08L 7/00

• ゴム変性用組成物及びその製造方法、タイヤ用変性ゴム、タイヤ用ゴム組成物並びにタイヤ
• 15年6月10日出願、B60C 1/00, B60C 1/00 A, C07C281/18 CSP, C08C 19/22, C08K 3/04, C08K 3/36, C08K 5/31, C08K 5/54, C08L 15/00, C08L 21/00

• レジスト材料、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
• 15年5月8日出願、C07C 25/18, C07C 39/12, C07C 43/215, C07C 69/54, C07C 69/54 B, C07C 69/54 Z, C07C 69/96, C07C 69/96 Z, C07C205/06, C07C211/61, C07C321/26, C08G 8/20, C08G 8/20 Z, G03F 7/004, G03F 7/004 531, G03F 7/038, G03F 7/038 601, G03F 7/039, G03F 7/039 601

• ジシアノベンゼンの製造方法及び製造装置
• 15年3月9日出願、C07C253/34, C07C255/51

• 半導体素子の洗浄用液体組成物、および半導体素子の洗浄方法
• 15年3月31日出願、H01L 21/304, H01L 21/304 647Z

• ポリアミドまたはポリアミド組成物の造粒方法
• 15年1月8日出願、C08G 69/26, C08J 3/12 CFG, C08J 3/12 CFGZ, C08L 77/06

• 海水冷却水の処理方法
• 15年8月4日出願、C02F 1/50, C02F 1/50 510C, C02F 1/50 510E, C02F 1/50 520F, C02F 1/50 531M, C02F 1/50 531N, C02F 1/50 531P, C02F 1/50 531Q, C02F 1/50 532C, C02F 1/50 532D, C02F 1/50 532H, C02F 1/50 540B, C02F 1/50 550B, C02F 1/50 550C, C02F 1/50 550D, C02F 1/50 550L, C02F 1/72, C02F 1/72 Z, F28F 19/00, F28F 19/00 501B

• 海生生物の付着防止方法およびそれに用いる付着防止剤
• 15年8月4日出願、C01B 11/02, C01B 11/02 B, C01B 11/02 F, C02F 1/50, C02F 1/50 510C, C02F 1/50 510E, C02F 1/50 520F, C02F 1/50 531M, C02F 1/50 531Q, C02F 1/50 532B, C02F 1/50 532D, C02F 1/50 532J, C02F 1/50 540A, C02F 1/50 540B, C02F 1/50 550C, C02F 1/50 550D, C02F 1/72, C02F 1/72 Z, C02F 1/76, C02F 1/76 A

• 硝酸塩含有過酸化水素水溶液の製造方法及び製造装置
• 15年6月4日出願、C01B 15/06 ZAB, C01B 15/10, C01B 15/10 Q, C02F 1/72, C02F 1/72 C, C02F 11/00, C02F 11/00 F

• 長繊維強化複合材料および成形品
• 16年8月10日出願、C08G 69/26

• リソグラフィー用下層膜形成用材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜及びパターン形成方法
• 16年4月7日出願、C08G 8/28, G03F 7/20, H01L 21/30 563

• ハニカム構造体及びサンドイッチ構造体ならびにそれらを製造するためのハニカム用基材
• 16年4月13日出願、B32B 3/28, C08L 77/00

• ノルボルナン骨格を有する二官能性化合物、及びその製造方法
• 16年3月25日出願、C07C 69/757 CSPZ

• 化合物、樹脂、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜、パターン形成方法、及び、化合物又は樹脂の精製方法
• 16年3月9日出願、C07D209/86, C08G 8/20 Z, G03F 7/11 503

• ポリイミド樹脂
• 16年3月10日出願、C08G 73/10, H05K 1/03 610N

• プリント配線板用樹脂組成物、プリプレグ、樹脂複合シート及び金属箔張積層板
• 16年2月19日出願、B32B 5/28 A, C08J 5/24 CFC, H05K 1/03 610L

• プリント配線板用樹脂組成物、プリプレグ、金属箔張積層板、樹脂シート、及びプリント配線板
• 16年1月29日出願、C08J 5/24 CFC, H05K 1/03 610R

• 光学材料用組成物およびその用途
• 16年3月1日出願、C08G 75/08, G02B 1/04

• ポリエステル系樹脂組成物及び該樹脂組成物を用いた成形体
• 14年12月22日出願

• 新規なチオール化合物及びそれを用いた光学材料用組成物
• 14年12月8日出願

• キシリレンジアミン組成物及びポリアミド樹脂の製造方法
• 14年10月29日出願、14年4月9日出願

• シアン酸エステル化合物、該化合物を含む硬化性樹脂組成物及びその硬化物
• 14年10月24日出願

• 光学材料用組成物及びそれを用いた光学材料
• 14年10月14日出願

• (メタ)アクリル系共重合体、樹脂組成物及びその成形体
• 14年10月1日出願

• 混繊糸およびその製造方法、組紐、織物、編み物ならびに不織布
• 14年9月18日出願

• ビス(アミノメチル)シクロヘキサンの異性化方法
• 14年9月17日出願

• 混繊糸の製造方法、混繊糸、巻取体、および、織物
• 14年9月10日出願

• ポリオレフィン系構造体の製造方法
• 14年8月29日出願

• ポリイミド樹脂組成物及びポリイミド樹脂-繊維複合材
• 14年8月4日出願

• 硬化性組成物
• 14年6月26日出願

• 銅およびチタンを含む多層膜のエッチングに使用される液体組成物、および該組成物を用いたエッチング方法、多層膜配線の製造方法、基板
• 14年3月31日出願

• 積層剥離容器の内層用ポリアミド樹脂組成物及びそれを用いた積層剥離容器
• 14年3月13日出願

• 新規エピスルフィド化合物および光学材料用組成物
• 14年3月12日出願

• 多層ボトル及びその製造方法
• 14年2月12日出願

• メマンチンの製造プロセス
• 14年1月16日出願

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【意匠】

• 医療用シリンジ搬送具
• 15年5月13日出願、G1501

• 雰囲気調整剤包装用袋
• 15年10月9日出願、C43100

【商標】

• Therplim＼サープリム
• 15年4月16日出願、1, 17

• NEOPULIM
• 15年11月12日出願、1, 2, 17

• GASKAMINE ENDEAVOR
• 15年11月10日出願、1

• ユピエース
• 16年9月13日出願、1, 17

• IUPIACE
• 16年9月13日出願、1, 17

• ユピタール
• 16年9月13日出願、1, 17

• IUPITAL
• 16年9月13日出願、1, 17

• ユーピロン
• 16年9月13日出願、1, 17

• IUPILON
• 16年9月13日出願、1, 17

• レニー
• 16年9月13日出願、1, 17

• RENY
• 16年9月13日出願、1, 17

• OXYSHUT
• 16年8月12日出願、10, 20, 21

• SLE
• 16年7月29日出願、4, 17

• MoistureVanish
• 16年10月24日出願、17, 21

• Inner Mirror
• 16年4月26日出願、9, 17

• オプティマス
• 16年2月26日出願、1, 17

• OPTIMAS
• 16年2月26日出願、1, 17

• アルテスタ
• 16年3月11日出願、1

• ALTESTER
• 16年2月12日出願、1

• §BioPQQ
• 14年12月16日出願

• IURESIN＼アイユーレジン
• 14年9月8日出願

• IUNISER＼ユニザール
• 14年9月8日出願

• ガスカミン
• 14年8月29日出願

• GASKAMINE
• 14年8月29日出願

• オキシキャプト＼OXYCAPT
• 14年7月22日出願、14年1月16日出願

• モイストヴァニッシュ＼MoistVanish
• 14年6月23日出願

• オキシヴァニッシュ＼OxyVanish
• 14年6月23日出願

• MODAP＼モダップ
• 14年5月26日出願

• §Bio PQQ
• 14年5月21日出願

• ルミライザー＼Lumiriser
• 14年5月7日出願

• サイテスタ＼CYTESTER
• 14年4月23日出願

• オキシバリア＼OXYBARRIER
• 14年3月31日出願

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法人番号情報の変更履歴

2015年10月5日

法人番号公表：9010001008768