法人番号情報
国立大学法人東京科学大学
更新日：2024年10月11日
過去の資格情報
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職場情報
- 【規模】
- 大企業（3652）
厚生労働省
政府調達・補助金
表彰情報
- 【表彰】
- 産業標準化事業表彰：２００７ 年に大学院講義を開設以来、現在まで多数の標準化人材を輩出。
- 19年10月8日/経済産業省
届出認定
- 【認定】
- ＰＲＴＲ：高等教育機関
- 文部科学大臣/経済産業省
- アルコール事業：許可使用者
- 01年4月24日/経済産業省
- アルコール流通管理システム（名称未登録）
- 01年4月24日/経済産業省
知的財産
- 【特許】
- 微小金属構造体
- 15年4月17日出願、C23C 18/31, C23C 18/31 Z, C23C 18/34, C23C 18/36, C23C 18/40, C23C 18/44, H05K 9/00, H05K 9/00 M
- 液滴製造デバイス、液滴の製造方法、リポソームの製造方法、固定具及び液滴製造キット
- 15年3月11日出願、B01J 13/04, C12N 11/04
- 化合物、並びにそれを含有する有機半導体材料、有機半導体インク及び有機トランジスタ
- 15年3月10日出願、C07D333/50 CSP, C07D493/04, C07D493/04 101A, C07D495/04, C07D495/04 101, C07D495/14, C07D495/14 A, C07D495/22, H01L 29/28 100A, H01L 29/28 250H, H01L 29/78 618B, H01L 29/786, H01L 51/05, H01L 51/30
- マイクロ波を利用したマグネシウム製錬装置及び製錬方法
- 15年11月13日出願、C22B 26/22, C22B 5/04, C22B 5/10, C22B 5/16, F27B 3/08
- 太陽光発電システム
- 15年4月13日出願、G05F 1/67, G05F 1/67 A, H02S 10/00
- 水蒸気流制御構造及びこれを用いた乾燥装置
- 15年12月9日出願、B09B 3/00, B09B 3/00 303Z, B27K 5/00, B27K 5/00 F, B32B 27/14 ZAB, B32B 5/22, F26B 25/06, F26B 25/06 Z, F26B 3/00, F26B 5/04
- 脳年齢提示装置
- 15年10月15日出願、A61B 5/00, A61B 5/00 101A, A61B 5/00 101K, A61B 5/01
- 感情判定装置
- 15年10月15日出願、A61B 5/00, A61B 5/00 101A, A61B 5/00 101K, A61B 5/01, A61B 5/16
- 金属複合水素透過膜とその製造方法
- 15年8月19日出願、B01D 69/00, B01D 69/10, B01D 69/12, B01D 71/02, B01D 71/02 500, C23C 28/02, C25D 1/08, C25D 3/12, C25D 3/12 102, C25D 5/18, C25D 5/50
- 半導体デバイス電極の製造方法
- 15年6月26日出願、C23C 14/06, C23C 14/06 A, C23C 14/14, C23C 14/14 D, C23C 14/58, C23C 14/58 A, H01L 21/28, H01L 21/28 301S, H01L 21/336, H01L 29/417, H01L 29/50 M, H01L 29/78, H01L 29/78 301P
- 直流電力系の安全装置
- 15年4月6日出願、H02S 10/00
- 自壊性二酸化炭素発生体および二酸化炭素発生システム
- 15年2月20日出願、B01J 21/06, B01J 21/06 M, B01J 23/30, B01J 23/30 M, B01J 35/02, B01J 35/02 J
- 加熱室に回収部を有するマイクロ波製錬装置
- 16年7月28日出願、C22B 26/22, F27D 11/12
- 乾燥装置
- 16年7月19日出願、A23B 7/02, B01D 53/26 100, F26B 11/02
- 共振構造を有する製錬原料ペレット及びこれを用いた製錬原料
- 16年6月10日出願、C22B 1/24
- 超弾性合金
- 14年10月23日出願
- パイ共役系高分子およびそのパイ共役系高分子を備えるブロック共重合体
- 14年10月17日出願
- ガス拡散電極用触媒層、その製造方法、膜電極接合体および燃料電池
- 14年9月18日出願
- 脳活動推定装置
- 14年9月1日出願
- 光変調機能付き面発光レーザ
- 14年8月8日出願
- 光配向材料および光配向方法
- 14年8月6日出願
- 透明スクリーン用フィルムおよびその製造方法ならびにそれを備えた透明スクリーン
- 14年7月4日出願
- セシウム吸着剤及びその製造方法並びにセシウム吸着剤を使用したセシウムの除去方法
- 14年6月26日出願
- 顔印象度推定方法、装置、及びプログラム
- 14年6月10日出願
- 鋼材の黒皮評価方法
- 14年5月16日出願
- ポリマーとその製造方法
- 14年4月25日出願
- 複合体の加熱方法と加熱装置
- 14年3月7日出願
- 文書要約装置、方法、及びプログラム
- 14年3月7日出願
- 有機薄膜、これを用いた有機半導体デバイスおよび有機トランジスタ
- 14年3月6日出願
- 化学反応装置、及び化学反応方法
- 14年1月7日出願
- もっと見る (15)
- 【商標】
- エネスワロー
- 14年3月13日出願
- Ene-Swallow
- 14年3月13日出願
法人番号情報の変更履歴
- 2024年10月7日
- 国立大学法人東京工業大学から国立大学法人東京科学大学に名称を変更 名称変更
- 2015年10月5日
- 法人番号公表：9013205001282