当社の報告セグメントは、当社の構成単位のうち分離された財務情報が入手可能であり、最高経営意思決定機関が経営資源の配分の決定及び業績を評価するために、定期的に検討を行う対象となっているものであります。
当社は、事業構成単位(ビジネスユニット)を基礎とした製品・サービス別のセグメントから構成されており、「真空機器事業」及び「真空応用事業」を報告セグメントとしております。
「真空機器事業」は、液晶ディスプレイ用スパッタリング装置、有機EL製造装置、巻取式真空蒸着装置、半導体製造用スパッタリング装置、真空ポンプ、計測機器などの製品から構成されており、これらの開発・製造・販売・保守サービスなどを行っております。

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#2 一般管理費及び当期製造費用に含まれる研究開発費（連結）

※3 一般管理費及び当期製造費用に含まれる研究開発費

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#3 主要な販売費及び一般管理費（連結）

※2 販売費及び一般管理費のうち主要な費目及び金額は次のとおりであります。

	前連結会計年度(自 2024年7月1日至 2025年6月30日)	当連結会計年度(自 2025年7月1日至 2026年6月30日)
支払手数料	2,713	3,664
研究開発費	12,557	13,107
貸倒引当金繰入額	427	1,811

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#4 事業の内容

当社グループは、当社、子会社34社、関連会社9社からなり、真空技術が利用されているさまざまな産業分野に多岐に渡る製品を生産財として提供している真空総合メーカーであります。
事業内容は、真空技術を基盤として、真空装置・機器やサービスを提供する真空機器事業と真空技術の周辺技術を基盤として、主に材料や表面分析装置等を提供する真空応用事業に区分できます。
各々の事業区分ごとの主要製品は下表のとおりであります。

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#5 企業結合等関係、連結財務諸表（連結）

3.譲渡した子会社が含まれていた報告セグメントの名称
真空応用事業
4.当連結会計年度の連結損益計算書に計上されている譲渡した子会社に係る損益の概算額

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#6 会計方針に関する事項（連結）

① 主要な事業における主な履行義務の内容
当社グループは真空技術を基盤として、液晶ディスプレイ用スパッタリング装置、有機EL製造装置、巻取式真空蒸着装置、半導体製造用スパッタリング装置、真空ポンプ、計測機器に代表される真空装置、コンポーネント等を提供する真空機器事業と、真空技術の周辺技術を基盤として、スパッタリングターゲット材料、分析機器等を提供する真空応用事業に区分され、両事業とも装置、機器、材料の提供を主な履行義務として識別しております。
② 履行義務を充足する通常の時点(収益を認識する通常の時点)

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#7 従業員の状況（連結）

①連結会社の状況

	(2026年6月30日現在)
真空機器事業	4,132
真空応用事業	838
全社(共通)	643

(注)1.従業員数は、当社グループから当社グループ外への出向者を除き、当社グループ外から当社グループへの出向者を含む就業人員であります。
2.全社(共通)として記載されている従業員数は、管理部門に所属しているものであります。

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#8 研究開発活動

(*2)「経済と環境の好循環」を作っていく産業政策であるグリーン成長戦略において実行計画を策定している重点分野又は「GX実現に向けた基本方針」に基づく今後の道行きが示されている主要分野のうち、特に政策効果が大きく、社会実装までを見据えて長期間の取組みが必要な領域にて、具体的な目標とその達成に向けた取組みへのコミットメントを示す企業等を対象として、最長10年間、研究開発・実証から社会実装までを継続して支援するものです。
当連結会計年度における研究開発費の総額は14,611百万円となり、セグメントごとに研究開発活動の成果を示すと次のとおりであります。
(真空機器事業)

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#9 経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析（連結）

営業利益率は7.3%(前年同期比3.3ポイント減)となりました。これはEV関連の一過性費用等の計上やディスプレイ関連ビジネスの売上増加等による製品ミックスの変化が主な要因となります。
なお、研究開発費の総額は146億11百万円となり、前年同期から6億20百万円増加しました。研究開発費の売上高に対する比率は前年同期比で0.2ポイント減少し5.4%となりましたが、将来のさらなる成長に向けて、半導体電子を中心に研究開発力強化のための投資を継続してまいります。
経営方針・経営戦略、経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等については、「1 経営方針、経営環境及び対処すべき課題等(3)優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題」に記載のとおり、当社グループは持続的な成長の実現を目指し、2026年6月期を初年度とする6年間の中長期経営計画「バリューアッププラン」を推進しております。経営資源を最適化し、半導体電子中心の事業ポートフォリオへの転換を加速させるとともに、高成長・高収益体質への変革を通じて、企業価値の向上を目指しております。

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#10 設備投資等の概要

真空機器事業につきましては、半導体及び電子部品製造装置、ディスプレイ・エネルギー関連製造装置それぞれの事業の評価用機械装置や研究開発用機械装置等に、14,138百万円の投資を行いました。
真空応用事業につきましては、マスクブランクス製造用設備等に、3,852百万円の投資を行いました。
また、当連結会計年度において重要な設備の除却、売却等はありません。

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#11 重要な会計方針、財務諸表（連結）

(1)主要な事業における主な履行義務の内容
当社は真空技術を基盤として、液晶ディスプレイ用スパッタリング装置、有機EL製造装置、巻取式真空蒸着装置、半導体製造用スパッタリング装置、真空ポンプ、計測機器に代表される真空装置、コンポーネント等を提供する真空機器事業と、真空技術の周辺技術を基盤として、スパッタリングターゲット材料、分析機器等を提供する真空応用事業に区分され、両事業とも装置、機器、材料の提供を主な履行義務として識別しております。
(2)履行義務を充足する通常の時点(収益を認識する通常の時点)

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