有報情報
- #1 一般管理費及び当期製造費用に含まれる研究開発費(連結)
- ※2 一般管理費及び当期製造費用に含まれる研究開発費2021/09/29 17:00
- #2 主要な販売費及び一般管理費(連結)
- ※1 販売費及び一般管理費のうち主要な費目及び金額は次のとおりであります。2021/09/29 17:00
前連結会計年度(自 2019年7月1日至 2020年6月30日) 当連結会計年度(自 2020年7月1日至 2021年6月30日) 支払手数料 2,099 1,887 研究開発費 6,152 5,985 貸倒引当金繰入額 △2,015 △625 - #3 研究開発活動
- 国内外の各開発拠点において競合他社に先駆けた独創的な新技術の開発、積極的な応用技術の開発を行っております。今後成長が見込まれるスマート社会の実現といった社会的課題の解決には、高度な電子デバイスが必要不可欠ですが、これらのデバイスを製造するための核心技術に当社の真空薄膜形成技術が貢献しております。当社は、主力製品である半導体製造用スパッタリング装置、FPD製造用スパッタリング装置及び真空蒸着装置に加え、さまざまな電子デバイス向けの成膜技術、材料の開発を重点的に行っております。また、お客様のご要望(VOC)や市場動向を収集し、タイムリーでスピード感のある開発を進めております。2021/09/29 17:00
当連結会計年度における研究開発費の総額は8,375百万円となり、セグメントごとに研究開発活動の成果を示すと次のとおりであります。
(真空機器事業) - #4 経営者による財政状態、経営成績及びキャッシュ・フローの状況の分析(連結)
- 営業利益率は9.4%(前年同期比0.8ポイント増)となり、前年同期を上回りました。これは主に、中期経営計画の取組みであるモノづくり力強化の成果が出始めていることが要因です。2021/09/29 17:00
なお、研究開発費の総額は83億75百万円となり、前年同期から22百万円増加しました。研究開発費の売上高に対する比率は、売上高の減少により、前年同期から0.1ポイント増加し4.6%となりました。新型コロナウイルスの影響による移動制限等も継続し、前年同期並みとなりましたが、将来の成長に向けた投資を引き続き強化しております。
経営方針・経営戦略、経営上の目標の達成状況を判断するための客観的な指標等については、「第2 事業の状況 1 経営方針、経営環境及び対処すべき課題等 (3) 優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題」に記載のとおり、当社グループは2021年6月期を初年度とする3年間の中期経営計画「Breakthrough 2022」を推進しております。この中期経営計画において、「成長に向けた開発投資(選択と集中)」及び「体質転換による利益重視の経営」の2つの基本方針を掲げております。この方針のもと、売上高、売上総利益率、営業利益率、ROE(自己資本利益率)、営業キャッシュ・フローを中期経営計画上の財務モデルにおける指標としております。