有価証券報告書-第36期(令和2年4月1日-令和3年3月31日)
沿革
| 1985年5月 | 東京都新宿区に㈱ホロンを設立 資本金33,000千円 |
| 1985年11月 | 東京都狛江市にテクニカルセンターを設立 |
| 1986年10月 | 電子ビーム微小寸法測定装置(ESPA-11)を開発・発表 |
| 1989年12月 | 電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-21を発表 |
| 1992年9月 | 電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-31を発表 |
| 1995年12月 | 電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-51を発表 |
| 1996年3月 | テクニカルセンターを狛江市から埼玉県所沢市に新設・移転 |
| 1997年12月 | 電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-61を発表 |
| 1998年12月 | マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-200、-300を開発・発表 ステンシルマスク検査技術(特許)を確立、発表 |
| 1999年1月 | EMU-200を海外に出荷開始 |
| 12月 | 磁気ヘッド形状測定装置EMR-100を完成 電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、ESPA-71を発表 |
| 2000年12月 | マスク用電子ビーム微小寸法測定装置をモデルチェンジし、EMU-220、-330を発表 |
| 2002年9月 | マスク用電子ビーム微小寸法測定装置、海外向けバージョンとしてEMU-220Aを発表 |
| 2003年4月 | EMU-220A、海外に出荷開始 |
| 本社ビル移転(東京都新宿区は変わらず) | |
| 2004年4月 | 韓国支店を開設 |
| 10月 | マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-250を開発・発表 |
| 2005年2月 | 株式会社ジャスダック証券取引所に上場(現 東京証券取引所JASDAQ) |
| 8月 | マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-270を開発・発表 |
| 2006年11月 | LED(発光ダイオード)生産用パターン転写装置電子スタンパーEBLITHOを開発・発表 |
| 2009年1月 | マスク用電子ビーム微小寸法測定装置EMU-270Aを開発・発表 |
| 7月 | 本社を東京都新宿区から埼玉県所沢市に移転 |
| 8月 | NEDO助成事業に2件採択「電子ビーム式次世代パターン高速検査装置の開発」「シームレスモールドステッパー製作とその実デバイス量産性能評価」 |
| 2010年11月 | EMUシリーズをモデルチェンジし、Z7を発表 |
| 12月 | ロールモールド評価用SEM(Roll-SEM)を開発 |
| 2011年2月 | nano tech大賞2011 微細加工技術部門賞を受賞(Roll-SEM) |
| 2013年5月 | NEDO助成事業に採択「大気開放型SEMを組み込んだ大型ロール検査装置の開発」 |
| 11月 | EDS分析のLEXa-7を発表 |
| 2014年5月 | NEDO助成事業に採択「NILナノパターンの観察計測ができる高分解能CD-SEMの開発」 |
| 2015年12月 | ウエハ用CD-SEM ESPA-3000シリーズを開発・発表 |
| 2016年3月 | 品質マネジメントシステムISO9001認証取得 |
| 2017年1月 | デバイス用マスクCD-SEMをモデルチェンジし、ZXを発表・発売開始 |
| フォトマスク用DR-SEMの高機能版LEXa-10HRを発表 | |
| 2018年6月 | 株式会社エー・アンド・デイの連結子会社となる |