有価証券報告書-第36期(令和2年4月1日-令和3年3月31日)

当社は電子ビーム技術を核として、電子光学系技術、電子ビーム制御技術、画像解析技術、超精密ステージ技術及び独自の低真空制御技術などを有しそれらの技術を生かしてフォトマスク用CD-SEMや欠陥レビューSEMなどの製品開発をしております。
製品開発におきまして、親会社である株式会社エー・アンド・デイとの協業によるシナジー効果として新しいEOS(電子光学系)及び高精度、高安定度なEOS制御回路の開発が着実に成果を上げ、次世代に向けたフォトマスク用CD-SEMの製品開発は順調に進んでおります。
また、新製品の開発を進めるに際し半導体産業のロードマップを注視すると共に、半導体業界のトレンド及びお客様の要望・要求を反映して、先端を行く製品の開発に努めております。
既存製品につきましては、スループット向上、サンプルへのダメージ低減及び取得画像の画質向上や測定の自動化などの改良も日々進めております。
また、それぞれのお客様の要望・要求を既存製品にも反映させてお客様に使いやすい製品となるように努めております。
ソフトウェアに関しましては、AI技術を取り入れ測定精度の向上、スループット向上、パターンマッチ画像形成及び欠陥位置の検出など、より高い信頼性と技術との調和を目指したシステムの開発を進めております。
なお、当事業年度の研究スタッフは8名、研究開発費は354,252千円となっております。