当社は、半導体産業および電子ビームに関連する事業及び分野において、顧客の要望に呼応しながら、製品の性能向上と新製品の開発に努めております。
当事業年度は、当社の主力製品であるフォトマスク用CD-SEMの最新機「ZX(ジーテン)」と、欠陥レビューSEMの「LEXa-10 HR(レグザ-テンエイチアール)」を発表しました。
「ZX」は、「Z7」で培った低真空技術と低加速電圧を印加する時の収差補正技術を基に、高安定化した収差補正器やS/N比を改良した新型検出器、また、平成26年にNEDOのイノベーション実用化ベンチャー支援事業に係る助成事業に採択されたナノインプリントリソグラフィー(Nano imprint Lithography;NIL)用モールド向けの『NILナノパターンの観察測定ができるCD-SEMの開発』において、ステージ機能に位置補正技術を搭載しました。これらの技術から高S/N比のSEM画像の取得が可能となり、①再現性の向上、②測長時間の短縮を実現しました。この①と②の相反する事象を同時に向上することで顧客の要望に応えることができました。
「LEXa-10 HR」は、元素分析時の高いプローブ電流条件下でも、二次電子分解能を向上させるために、収差補正器を搭載しました。これにより、ビーム軸調整も自動化されました。
上記の通り、今後も次世代への商品開発と顧客要求を満足させる開発を継続して行きたいと考えております。
当事業年度の研究スタッフは5名、研究開発費は52,187千円となっております。