有価証券報告書-第119期(2025/04/01-2026/03/31)

② 戦略
当社は、「創造的開発型企業」を目指し、その基盤として人材の育成と社内環境整備を一体で推進しています。中期経営計画において人材育成充実を重点戦略の一つとして位置づけ、経営戦略の実現に必要な人材の確保、育成、活躍を通じて、競争力と持続的成長を高めます。
一つ目の人材開発の中核は、全体育成(全体の底上げ)と選抜育成(尖った人材の育成)の2本立てです。全体育成では、階層別研修を抜本的に見直し、社員1級～4級を基礎力育成期間、社員5級～7級をリーダー育成期間として設計しています。一気通貫の研修内容により、幹部職に必要な要素を社員7級までに計画的に習得させ、「思考力」と「行動力」を鍛えることで、幹部職昇格後の実務実践への移行を円滑にすることを狙いとしています。さらに幹部職以上には、サーバントリーダーシップ研修といった時流に即した組織作りスキルを定期的に学ぶ機会を設け、より良い仕事をアウトプットできる組織風土の醸成を図ります。
選抜育成では、総合職の中から経営人材およびプロフェッショナル人材を、人材育成委員会の選定を基に外部研修・留学・実務等を通じて計画的かつ戦略的に育成します。人材の見極め・入替は適性確認のうえ毎年見直し、必要な能力を備えた人材配置につなげます。加えて、半導体材料における技術革新への対応として高度な専門性を要する領域では、大学院博士課程への派遣を2026年4月に1名、10月に1名予定し、専門人材の強化を進めています。
二つ目の社員のwell-being追求における社内環境整備については、「安全で働きがいを実感できる職場環境」を重視しています。2024年度よりアンコンシャス・バイアスおよび心理的安全性に関する研修を役員および全社員に段階的に実施してきたほか、心理的安全性の基礎となるコミュニケーションの質を高めるため、会議のグランドルールを2026年4月に制定しました。さらにエンゲージメント状況を可視化するため、2026年3月よりショートサーベイを役員および全社員で実施し、部署結果は部門長から開始して改善に繋げます。更にフォローが必要な部署には、部署結果に連動した部員参加型フィードバック・ミーティング等の運用により、組織改善を継続的に実行していきます。
三つ目のジェンダー、多様性の推進においては、異なる意見やアイディアを融合し、イノベーションに繋げる様な土台作りとして、アンコンシャス・バイヤスおよび心理的安全性を推進すると並行し、特に女性活躍推進を進めております。その理由として、当社では全社員に占める女性の割合が約10%と男性と大差があり、これは当社が工場を中心とした技術・技能を中心とするメーカーである故に、女性社員の比率が低いことが挙げられます。当社のありたい姿としては、あらゆる場面において、女性が男性と同様に意思決定プロセスに参画し、よりイノベーションが生まれる組織風土に変革できている状態と考え、従前女性総合職の採用は技術系限定だったものを、2016年度より事務系にも広げ、引継ぎ取り組んでおります。更に、2024年度より女性総合職・技術職を中心に、選抜型研修(WomanMeetup)を開始し、社内でのタテ・ヨコ・ナナメの人脈形成と共に、幹部職を見据えたスキルを身に付ける取り組みを開始しました。2026年度は幹部職候補の女性社員を対象に選抜型研修を実施予定です。しかしながら、幹部職に占める女性比率は低く、改善に向けて取り組みを継続します。