有価証券報告書-第36期(平成26年8月1日-平成27年7月31日)

当社は、化合物半導体向けの製造装置を主力製品とし、研究開発機市場と生産機市場それぞれで事業を展開しております。当社は、「薄膜技術で世界の産業科学に貢献する」ことを経営理念としており、研究開発型企業として成長してきた高度な技術力を維持すると同時に、その技術蓄積を生産機市場で活かすことで、事業規模の拡大を図っております。加えて、当社のコアテクノロジーである「薄膜技術」は医療、バイオ、環境といったライフサイエンス及びエネルギー分野に活かすことが可能であり、中期的には当社の新規事業、新分野として成長させることを目指しております。
平成25年7月の東京証券取引所第二部への上場、平成26年1月の東京証券取引所第一部への上場は、当社の信用力向上、優秀な人材の確保に大きく貢献しております。東証一部上場企業としての社会的責任を果たしつつ、着実に業績を拡大していきたいと考えております。
平成27年8月17日開催の取締役会決議により、今後の事業拡大に備えた事業基盤を構築するとともに収益力の強化及び企業価値の拡大のため、平成27年9月1日を払込期日とする新株式発行を実施いたしました。新株式発行により得られた資金は、海外拠点の整備、新しいマーケット開拓のための研究開発に用いる機械装置等の取得資金、生産能力増強のための工場設備の増強資金、情報インフラ等に係る設備投資資金に充当する計画であります。また、平成27年8月よりスタートする新中期経営計画において、当社の新たな成長へのステージに向けたロードマップを作成し、以下の課題に取り組んでまいります。
①事業の成長力向上
当社は、北米、欧州、中国、台湾、韓国、東南アジア・インド等の世界各国で事業を行っており、中期的に海外売上高比率50%以上の達成を目指しております。積極的に海外拠点網の拡充、現地人材の採用を進め、海外の販売代理店やリヒテンシュタインの子会社であるUCP社を活用し、事業の成長力向上に取り組んでおります。
また、生産能力増強のため、京都市伏見区の本社社屋の近接地に組立・調整・検査を目的とした新拠点の建設に着手いたしました。併せて既存の生産技術研究棟の改修工事及びクリーンルーム等を増設する計画であります。
②新製品、新規事業の早期業績への寄与
現在の製品群であるCVD装置、エッチング装置、洗浄装置に次ぐ、新製品の開発や、新規事業の早期業績への寄与を目指しております。社内で推進している各プロジェクトでは、ボッシュプロセス搭載の深掘りエッチング装置、窒化物半導体のエピ技術の研究を進めております。また、LED、LD、パワーデバイス、MEMS、三次元LSIのTSV(Through Silicon Via=シリコン貫通電極)等の最先端分野において取引先ニーズに対応できる新製品の開発、製品のラインナップ化を一層強化いたします。
新しいマーケット開拓のための研究開発に用いる機械装置の設備投資を行い、持続的な成長を実現する研究開発体制を整備、強化いたします。また、米国オプトフィルムス研究所、英国ケンブリッジ大学内研究所との3極体制での研究開発、国内外の大学や各種クラスターとの共同研究の継続により、薄膜事業に関連する新規事業を創出し、成長を加速させてまいります。
③グローバル組織・体制の強化
成長戦略の実現、企業の社会的責任の実現と企業価値の向上を支えるため、グローバル組織・体制の強化を進めてまいります。海外事業を拡大していくにあたり、中期的な視点に基づいたグローバル人材の育成・強化や、コーポレートガバナンスの充実、内部統制システムの構築・推進によるコンプライアンス体制の更なる充実・強化が重要であると認識しております。また、情報システム導入や更新、セキュリティ対策等の設備投資を計画しております。
株主、取引先、従業員等のステークホルダーにとって魅力ある企業を目指し、長期的な観点に立った財務体質と事業基盤の強化、収益力の強化、適切な利益配分により企業価値の向上を目指してまいります。株主の皆様におかれましては、引き続き変わらぬご支援とご鞭撻を賜りますようお願い申し上げます。