訂正有価証券報告書-第88期(平成29年4月1日-平成29年12月31日)

(1) 業績
当社は、平成29年6月28日開催の第87回定時株主総会において、「定款一部変更の件」が承認されたことを受け、当事業年度より事業年度の末日を3月31日から12月31日に変更し、また、3月決算の子会社も12月決算に変更しております。従いまして、経過期間である当連結会計年度は、当社および3月決算であった子会社が平成29年4月1日から平成29年12月31日までの9カ月間、また、従前より12月決算であった子会社が平成29年1月1日から平成29年12月31日までの12カ月間を連結対象期間とした変則決算となっております。このため、前年比較にあたっては、前年度の実績を当年度と同一期間に調整しております。
当連結会計年度の世界経済は、中国における景気の持ち直しの動きに加え、ユーロ圏や米国においても景気回復が続くなど、総じて回復の動きが継続しました。また、日本経済は、企業業績の回復を背景に雇用・所得環境の改善傾向が続くとともに、個人消費も持ち直しの動きがみられ、総じて緩やかな景気回復基調を維持しました。
当社グループ製品の主な需要先でありますエレクトロニクス業界におきましては、パソコンやタブレット端末の需要の落込みはありましたものの、スマートフォンの販売が高水準を維持したことに加え、データサーバー市場の成長等が半導体市場を牽引したことにより総じて好調に推移しました。
このような情勢の下、当社グループは、平成32年度のありたい姿の実現に向け、「高付加価値製品による感動(満足できる性能、コスト、品質)を通じて、世界で信頼される企業グループを目指す。」という経営ビジョンの下、中期計画「tok中期計画2018」の全社戦略に掲げた「事業ポートフォリオの変革」、「顧客密着戦略の進化」、「グローバルに対応できる人材の開発を推進」、「経営基盤強化とTOKグループ構想の実現」の深化に総力を挙げて取り組んでまいりました。
まず、当社グループでは、次世代半導体製造プロセスとして実用化の迫る極端紫外線用フォトレジストの開発に注力し、高い顧客評価を獲得することができました。さらに、将来を担う新規事業に繋がる技術開発に取り組み、新たな価値の創出を目的とし、主力開発拠点である相模事業所内に研究開発棟および関連施設の建設を決定いたしました。加えて、販売・生産・研究開発機能の三位一体のサービス提供を通して、市場の拡大が進む三次元メモリ向けエキシマレーザー用フォトレジスト、最先端プロセスに対応した半導体用フォトレジスト付属薬品、技術革新の進む半導体製造の後工程分野で使用されるパッケージ用フォトレジストの拡販に努め、着実な成果をあげてまいりました。また、グローバルに活躍できる人材の創出・育成に向けた教育プログラムの継続的な実施に加え、当社グループが一体となり企業価値向上と内包するリスクの低減を図るべく、経営管理体制の強化や効率化を進めるなど、経営基盤の強化に向けた諸施策を講じてまいりました。
この結果、当連結会計年度の当社グループの売上高は924億11百万円(前年同一期間比14.4%増)となりました。利益面におきましては、円安傾向で推移した為替の好影響はありましたものの、積極的な設備投資に伴う減価償却費等の経費増加に加え、原油価格上昇等に伴う原材料価格の高騰や決算期変更に伴う一時的費用が発生したことから、営業利益は91億94百万円(同1.3%減)、経常利益は97億20百万円(同6.9%増)、親会社株主に帰属する当期純利益は60億7百万円(同9.5%増)となりました。
セグメントの業績は次のとおりであります。
①材料事業
[エレクトロニクス機能材料部門]
半導体用フォトレジストは、エキシマレーザー用フォトレジストが三次元メモリ向けに引き続き拡大したほか、大手ユーザーにおける最先端プロセスを適用した半導体の量産が本格化したことで、販売は堅調に推移し、売上は増加いたしました。また、高密度実装材料では、ユーザーニーズを的確に捉えた研究開発・営業活動が奏功し、半導体パッケージ用フォトレジストおよびMEMS(微小電気機械システム)用フォトレジストの販売が増加したことから、売上を伸ばすことができました。さらに、ディスプレイ用フォトレジストは、高精細ディスプレイ向け製品がユーザーで採用されるなど、売上は増加いたしました。
この結果、当部門の売上高は、512億30百万円(前年同一期間比8.3%増)となりました。
[高純度化学薬品部門]
半導体用フォトレジスト付属薬品は、アジア地域においてユーザーにおける最先端プロセス製造ラインの立上げが進み、大幅に販売が伸長したことで、売上は増加いたしました。また、ディスプレイ用フォトレジスト付属薬品は、アジア地域を中心にユーザー需要が拡大したことから、売上は増加いたしました。
この結果、当部門の売上高は、386億76百万円(同24.7%増)となりました。
以上の結果、材料事業の売上高は、905億32百万円(同14.8%増)、営業利益は128億16百万円(同3.0%増)となりました。
(単位:百万円、%)

	前年同一期間	当連結会計年度	増減額	増減率
売上高	78,842	90,532	11,690	14.8
営業利益	12,448	12,816	367	3.0

なお、セグメント間の取引につきましては、相殺消去しておりません。
②装置事業
[プロセス機器部門]
半導体の高機能、高性能化に貢献するシリコン貫通電極形成システム「ゼロニュートンⓇ」は、三次元実装市場において、データサーバー向けでは新規半導体製造用に実績を重ねているものの、パソコンやスマートフォン向けなどでは、市場規模の拡大に力強さを欠いていることからユーザーにおける生産能力の増強投資が抑制されており、売上は減少いたしました。
この結果、装置事業の売上高は、19億21百万円(前年同一期間比1.1%減)となりました。また、営業損失は、前年同一期間比3億30百万円悪化し、6億64百万円となりました。
(単位:百万円、%)

	前年同一期間	当連結会計年度	増減額	増減率
売上高	1,943	1,921	△21	△1.1
営業損失(△)	△333	△664	△330	―

なお、セグメント間の取引につきましては、相殺消去しておりません。
(2) キャッシュ・フローの状況
(営業活動によるキャッシュ・フロー)
当連結会計年度の営業活動によるキャッシュ・フローは、前連結会計年度に比べ23億13百万円減少の101億62百万円の資金収入となりました。これはたな卸資産が10億13百万円増加、仕入債務が10億80百万円減少したことが主な要因であります。
(投資活動によるキャッシュ・フロー)
投資活動によるキャッシュ・フローは、前連結会計年度に比べ74億8百万円減少の59億93百万円の資金投下となりました。これは長期預金の払戻による収入が90億円減少したものの、長期預金の預入による支出が110億円、有形固定資産の取得による支出が31億24百万円それぞれ減少したことが主な要因であります。
(財務活動によるキャッシュ・フロー)
財務活動によるキャッシュ・フローは、前連結会計年度に比べ83億48百万円増加の106億73百万円の資金支出となりました。これは自己株式の取得による支出が78億21百万円増加したことが主な要因であります。
これらの活動の結果、現金及び現金同等物の残高は前連結会計年度末の359億7百万円から59億45百万円減少し299億61百万円となりました。