有価証券報告書-第79期(2024/12/01-2025/11/30)

(重要な後発事象)
(重要な設備投資)
1.設備投資の背景と目的
当社は、2025年12月19日開催の取締役会において、酒田工場(山形県飽海郡遊佐町)における新規設備建設を決定いたしました。
AIや高性能デバイスの進展により、半導体市場は今後も成長が見込まれており、微細化・高集積化に対応する材料の開発と、安定した供給体制の構築は一層重要性を増しています。
当社は、中期経営計画「Progress & Development 2030」(2024年12月～2030年11月)に基づき、中量実験室の建設や約80億円を投じた生産設備の稼働を通じて、先端半導体用材料の開発・生産体制を強化してきました。
今回の新設備計画では、さらなる生産能力の拡充と高純度化技術の向上を図り、先端半導体用材料の市場シェア拡大と事業発展を目指します。また、金沢工場・酒田工場の2拠点生産体制により、BCP(事業継続計画)を確実に実現し、安定した供給体制の構築を推進します。
2.設備投資の概要
① 対象商品 :半導体関連材料
② 所在地 :当社 酒田工場(山形県飽海郡遊佐町)
③ 着工時期 :2026年(予定)
④ 完成時期 :2028年(予定)
⑤ 投資総額 :約100億円
3.当該設備が営業、生産活動に及ぼす重要な影響
本投資による新規設備は2028年完成予定であり、2026年11月期の連結業績に与える影響は軽微であります。