有価証券報告書-第113期(平成28年7月1日-平成29年6月30日)
(1) 会社の経営の基本方針
当社グループは、下記の基本方針にもとづき、株主、投資家及びお客様満足度の向上を図ることで企業価値を高めてまいります。
①顧客満足の増進
複雑化、高度化するお客様の課題に対し、技術、価格、納期、アフターサービスなどに迅速かつ柔軟に対応し、お客様満足度の向上を目指します。
②生産技術の革新
製造業の基本であるコスト競争力を高めるため、製造装置の標準化(モジュール化、ユニット化)を中心とした継続的な生産技術の革新を行います。
③独創的な商品開発
競合他社が真似することのできない最先端の独創技術を商品化し、開発型のソリューションを提供する企業を目指します。
④自由闊達な組織
経営方針や情報が迅速に伝わる風通しのよい組織と企業風土を継続して形成します。
⑤企業価値の向上
株主価値の向上にとどまらず、技術の総合利用を通じて産業と科学の発展に貢献することを目指します。
(2) 経営環境
当社グループを取り巻くエレクトロニクス市場においては、スマートフォン販売台数の伸びの低下は見られるものの、モバイル機器などの高機能化・薄型化に向けた動きは継続し、半導体や電子部品の需要は概ね堅調に推移しました。フラットパネルディスプレイ(FPD)製造装置の設備投資も、モバイル端末向け有機EL製造装置やテレビ向け大型液晶ディスプレイ製造装置が、引き続き活発な動きを示しております。また、スマート社会化などエレクトロニクス分野を中心とした技術革新の動きが加速してきており、半導体や電子部品メーカー等の旺盛な設備投資が予想されます。
(3) 対処すべき課題等
平成32年6月期までの3ヶ年中期経営計画実現に向け、真空技術の総合利用と装置・材料・成膜加工・分析・サービスのシナジー効果の最大化やグローバルなビジネスパートナーとの連携による高い収益性の企業経営及び次の飛躍のための人づくり、果敢に挑戦する企業文化構築を推進してまいります。
具体的な取り組みについては次のとおりとなります。
①経営基盤の強化
イ.人財の育成 [事業推進力アップ]
・次世代経営幹部の育成
・グローバルな人財登用・育成
ロ.グループ連携の深化 [ものづくり力アップ]
・グローバルな開発・調達・生産体制の強化とコストダウン
・研究開発投資(※)の拡大(3年間で500億円程度)
(※)研究開発用設備投資額+研究開発費
・グローバル市場・技術戦略の加速
ハ.情報基盤の整備 [状況判断力アップ]
・ITの活用による情報収集・管理の効率向上
ニ.財務体質の強化 [成長投資力アップ]
・自己資本比率改善等の財務体質の更なる強化
②重点戦略
イ.成長事業の推進
・FPD事業の盤石化
・半導体・電子機器事業の強化
・グローバル展開による事業成長の推進
ロ.価値創造力の向上
・マーケティング強化と独創的な技術・商品開発
・グローバルな調達・生産体制強化とコストダウン
上記の取り組みを推進することにより、平成32年6月期に売上高2,500億円、営業利益350億円、営業利益率14%の達成を目指しております。
なお、文中の将来に関する事項は、本「有価証券報告書」提出日現在において当社グループが判断したものであります。
当社グループは、下記の基本方針にもとづき、株主、投資家及びお客様満足度の向上を図ることで企業価値を高めてまいります。
①顧客満足の増進
複雑化、高度化するお客様の課題に対し、技術、価格、納期、アフターサービスなどに迅速かつ柔軟に対応し、お客様満足度の向上を目指します。
②生産技術の革新
製造業の基本であるコスト競争力を高めるため、製造装置の標準化(モジュール化、ユニット化)を中心とした継続的な生産技術の革新を行います。
③独創的な商品開発
競合他社が真似することのできない最先端の独創技術を商品化し、開発型のソリューションを提供する企業を目指します。
④自由闊達な組織
経営方針や情報が迅速に伝わる風通しのよい組織と企業風土を継続して形成します。
⑤企業価値の向上
株主価値の向上にとどまらず、技術の総合利用を通じて産業と科学の発展に貢献することを目指します。
(2) 経営環境
当社グループを取り巻くエレクトロニクス市場においては、スマートフォン販売台数の伸びの低下は見られるものの、モバイル機器などの高機能化・薄型化に向けた動きは継続し、半導体や電子部品の需要は概ね堅調に推移しました。フラットパネルディスプレイ(FPD)製造装置の設備投資も、モバイル端末向け有機EL製造装置やテレビ向け大型液晶ディスプレイ製造装置が、引き続き活発な動きを示しております。また、スマート社会化などエレクトロニクス分野を中心とした技術革新の動きが加速してきており、半導体や電子部品メーカー等の旺盛な設備投資が予想されます。
(3) 対処すべき課題等
平成32年6月期までの3ヶ年中期経営計画実現に向け、真空技術の総合利用と装置・材料・成膜加工・分析・サービスのシナジー効果の最大化やグローバルなビジネスパートナーとの連携による高い収益性の企業経営及び次の飛躍のための人づくり、果敢に挑戦する企業文化構築を推進してまいります。
具体的な取り組みについては次のとおりとなります。
①経営基盤の強化
イ.人財の育成 [事業推進力アップ]
・次世代経営幹部の育成
・グローバルな人財登用・育成
ロ.グループ連携の深化 [ものづくり力アップ]
・グローバルな開発・調達・生産体制の強化とコストダウン
・研究開発投資(※)の拡大(3年間で500億円程度)
(※)研究開発用設備投資額+研究開発費
・グローバル市場・技術戦略の加速
ハ.情報基盤の整備 [状況判断力アップ]
・ITの活用による情報収集・管理の効率向上
ニ.財務体質の強化 [成長投資力アップ]
・自己資本比率改善等の財務体質の更なる強化
②重点戦略
イ.成長事業の推進
・FPD事業の盤石化
・半導体・電子機器事業の強化
・グローバル展開による事業成長の推進
ロ.価値創造力の向上
・マーケティング強化と独創的な技術・商品開発
・グローバルな調達・生産体制強化とコストダウン
上記の取り組みを推進することにより、平成32年6月期に売上高2,500億円、営業利益350億円、営業利益率14%の達成を目指しております。
なお、文中の将来に関する事項は、本「有価証券報告書」提出日現在において当社グループが判断したものであります。