6856 堀場製作所

時価

4565億円

PER 予

12.6倍

2009年以降

5.92-34.04倍
（2009-2024年）

1.49倍

2009年以降

0.63-2.5倍
（2009-2024年）

2.68%

ROE 予

11.8%

ROA 予

7.65%

研究開発費 - 環境・プロセスシステム機器、法人税等の支払額、資産の部 - 半導体システム機器

【期間】

1Q
通期
全期間

年度	研究開発費 - 環境・プロセスシステム機器		法人税等の支払額		資産の部 - 半導体システム機器
2008/12	-		-65億		-
2009/12	-		-26.6億	赤縮	-
2010/12	-		-11.4億	赤縮	-
2012/12	-		-		190億
2013/12	-		-		250億	+32%
2014/12	-		-		299億	+19.6%
2015/12	-		-		339億	+13.3%
2016/12	-		-		385億	+13.6%
2017/12	-		-		522億	+35.5%
2018/12	-		-		541億	+3.7%
2019/12	15.2億		-		484億	-10.5%
2020/12	14.8億	-2.7%	-		518億	+6.9%
2021/12	18億	+21.7%	-		723億	+39.7%
2022/12	18.9億	+5.2%	-		975億	+34.9%

2008年12月

研究開発費 - 環境・プロセスシステム機器: -
法人税等の支払額: -64億9600万
資産の部 - 半導体システム機器: -

2009年12月

研究開発費 - 環境・プロセスシステム機器: -
法人税等の支払額: -26億6300万
資産の部 - 半導体システム機器: -

2010年12月

研究開発費 - 環境・プロセスシステム機器: -
法人税等の支払額: -11億4400万
資産の部 - 半導体システム機器: -

2012年12月

研究開発費 - 環境・プロセスシステム機器: -
法人税等の支払額: -
資産の部 - 半導体システム機器: 189億6300万

2013年12月

研究開発費 - 環境・プロセスシステム機器: -
法人税等の支払額: -
資産の部 - 半導体システム機器: 250億2500万

2014年12月

研究開発費 - 環境・プロセスシステム機器: -
法人税等の支払額: -
資産の部 - 半導体システム機器: 299億2600万

2015年12月

研究開発費 - 環境・プロセスシステム機器: -
法人税等の支払額: -
資産の部 - 半導体システム機器: 339億100万

2016年12月

研究開発費 - 環境・プロセスシステム機器: -
法人税等の支払額: -
資産の部 - 半導体システム機器: 385億600万

2017年12月

研究開発費 - 環境・プロセスシステム機器: -
法人税等の支払額: -
資産の部 - 半導体システム機器: 521億6200万

2018年12月

研究開発費 - 環境・プロセスシステム機器: -
法人税等の支払額: -
資産の部 - 半導体システム機器: 540億8200万

2019年12月

研究開発費 - 環境・プロセスシステム機器: 15億1900万
法人税等の支払額: -
資産の部 - 半導体システム機器: 483億9700万

2020年12月

研究開発費 - 環境・プロセスシステム機器: 14億7800万
法人税等の支払額: -
資産の部 - 半導体システム機器: 517億5100万

2021年12月

研究開発費 - 環境・プロセスシステム機器: 17億9900万
法人税等の支払額: -
資産の部 - 半導体システム機器: 722億7900万

2022年12月

研究開発費 - 環境・プロセスシステム機器: 18億9300万
法人税等の支払額: -
資産の部 - 半導体システム機器: 975億2800万