四半期報告書-第121期第1四半期(平成26年4月1日-平成26年6月30日)

(企業結合等関係)
当第1四半期連結会計期間(自 平成26年4月1日 至 平成26年6月30日)
子会社の企業結合
当社は、平成26年4月4日付で、当社の特定子会社であったDNP Photomask Technology Taiwan Co.,Ltd.(以下「DPTT」)を、Photronics,Inc.の子会社であるPhotronics Semiconductor Mask Corp.(以下「PSMC」)に吸収合併させ、合弁会社を設立した。
(1) 子会社が行った企業結合の概要
① 各結合当事企業の名称及び当該事業の内容
結合企業 Photronics Semiconductor Mask Corp.
事業の内容 半導体フォトマスクの製造及び販売
被結合企業 DNP Photomask Technology Taiwan Co.,Ltd.
事業の内容 半導体フォトマスクの製造及び販売
② 企業結合を行った主な理由
半導体フォトマスク事業の一層の競争力強化を図るため。
③ 企業結合日
平成26年4月4日
④ 法的形式を含む取引の概要
DPTTを消滅会社、PSMCを存続会社とする吸収合併の方式による。
本合併後、PSMCはPhotronics DNP Mask Corporationに商号を変更し、当社は同社の普通株式49.99%の割当てを受けた。この結果、同社は当社の持分法適用関連会社となった。
(2) 実施した会計処理の概要
「事業分離等に関する会計基準」(企業会計基準第7号 平成20年12月26日公表分)及び「企業結合会計基準及び事業分離等会計基準に関する適用指針」(企業会計基準適用指針第10号 平成20年12月26日公表分)に基づき、会計処理を行っている。
(3) 当該子会社が含まれていた報告セグメントの名称
エレクトロニクス部門
(4) 当期の四半期連結累計期間の四半期連結損益計算書に計上されている当該子会社に係る損益の概算額
売上高 2,450百万円
営業利益 176 〃