有価証券報告書-第119期(平成31年4月1日-令和2年3月31日)
有報資料
当連結会計年度の設備投資の総額は760百万円であり、セグメント別の設備投資について示すと次のとおりであります。
エレクトロニクス事業においては、電源機器の検査設備を中心に42百万円の設備投資を実施しました。
メカトロニクス事業においては、システム機器の生産設備を中心に191百万円の設備投資を実施しました。
ケミトロニクス事業においては、合成樹脂塗料の生産設備を中心に139百万円の設備投資を実施しました。
コンポーネント事業においては、精密機構部品の生産設備を中心に325百万円の設備投資を実施しました。
全社共通においては、通信機器設備や既存建物の設備改修を中心に62百万円の設備投資を実施しました。
なお、当連結会計年度において重要な設備の除却、売却等はありません。
エレクトロニクス事業においては、電源機器の検査設備を中心に42百万円の設備投資を実施しました。
メカトロニクス事業においては、システム機器の生産設備を中心に191百万円の設備投資を実施しました。
ケミトロニクス事業においては、合成樹脂塗料の生産設備を中心に139百万円の設備投資を実施しました。
コンポーネント事業においては、精密機構部品の生産設備を中心に325百万円の設備投資を実施しました。
全社共通においては、通信機器設備や既存建物の設備改修を中心に62百万円の設備投資を実施しました。
なお、当連結会計年度において重要な設備の除却、売却等はありません。