有価証券報告書-第55期(平成28年7月1日-平成29年6月30日)

(1)会社の経営の基本方針
当社グループは、創業以来「世の中にないものをつくり、世の中のためになるものをつくる」を経営理念に、半導体・FPDをはじめとする先端分野の市場に、各種検査・計測システムを提供してまいりました。今後もこの経営理念を堅持し、「世界中のお客様から何か困ったことが有れば、真っ先に声をかけて頂ける」会社を目指します。そのために、当社グループのコア技術である光技術を軸として、精密機械・エレクトロニクス・ソフトウエアの先進複合技術で、どこよりも早くソリューションを顧客に提供し貢献していくことを会社のミッションとしています。
(2)経営環境及び目標とする経営指標
当社グループは、企業の価値を高め続けることが、本来あるべき企業の成長の姿と考えており、この成長により、株主をはじめとするすべてのステークホルダー(利害関係者)の満足度向上を目指します。
当社グループの主たる事業領域である半導体業界は、技術革新のスピードが速く、常に最先端に向けた開発投資を継続的に行う必要があります。成長への投資を継続しつつ確固たる財務基盤を築くために、営業利益率20%以上を目標としております。
(3)対処すべき課題
当社グループは、新たにフェーズⅢの3ヵ年を加え、合計12ヵ年とした新中期経営計画(注)を推進しています。
平成30年6月期は、フェーズⅡの最終年度になります。フェーズⅡでは、コアビジネスの更なる強化と、新規事業の基盤を確立することを方針に掲げ、成長戦略を進めてまいりました。平成30年6月期は、下記のような課題に取り組みます。
① コアビジネスの強化
半導体用フォトマスク欠陥検査装置は、装置性能を向上させ、特に中国をはじめ海外でのサポート力、営業力を強化することで競争力を高め、シェア増大を図ります。半導体用マスクブランクス欠陥検査装置は、当期発表した新モデルM8651の主要マスクブランクスメーカー及びマスクショップへの拡販を推進します。FPD(フラットパネルディスプレイ)用大型フォトマスク欠陥検査装置は、LCD(液晶ディスプレイ)、OLED(有機ELディスプレイ)業界の設備投資拡大の好機を逃さず売上の増加を図ります。
② 新規事業の基盤を確立
SiCウェハ欠陥検査/レビュー装置は、高いマーケットシェアの獲得に成功しましたが、更なるシェア向上を推し進めます。その他の半導体ウェハ関連の検査・計測装置も、顧客先での認知度を高め、販売台数の増加を目指します。
また当連結会計年度に発表したEUVマスクブランクス欠陥検査装置の継続的な受注を図ると共に、新しい柱となる新規事業を見出すべく、積極的に市場の新たなニーズを発掘していきます。
平成31年6月期からのフェーズⅢは、次世代の露光技術であるEUVリソグラフィ関連の新製品やウェハ関連の新規事業を大きく業績へ貢献させることで、飛躍を目指してまいります。
(注)合計12ヵ年の新中期経営計画