有価証券報告書-第40期(平成30年8月1日-令和1年7月31日)
沿革
年月 | 事項 |
昭和54年9月 | 半導体製造装置の製造及び販売を目的として株式会社サムコインターナショナル研究所を設立 |
昭和55年7月 | 国産初のプラズマCVD(Chemical Vapor Deposition)装置の開発、販売を開始 |
昭和59年7月 | 東京都品川区に東京出張所(現東日本営業部)を開設 |
昭和60年6月 | 京都市伏見区竹田田中宮町33番地(現藁屋町36番地)に本社を移転 |
昭和62年2月 | 米国カリフォルニア州にオプトフィルムス研究所を開設 |
平成3年3月 | 京都市伏見区に研究開発センターを開設 |
平成5年2月 | 茨城県土浦市につくば出張所(現つくば営業所)を開設 |
平成5年9月 | 愛知県愛知郡長久手町に東海営業所(現東海支店)を開設 |
平成7年7月 | 薄膜技術を使った特定フロン無公害化技術の基本技術を開発 |
平成9年11月 | キリンビール株式会社と共同で、プラスチックボトルにDLC(ダイヤモンド・ライク・カーボン)膜を形成する技術を開発 |
平成11年7月 | サムコエンジニアリング株式会社より、サービス部門の営業を譲受け |
平成12年1月 | 英国ケンブリッジ大学内に研究所を開設 |
平成13年5月 | 日本証券業協会に株式を店頭上場 公募増資により資本金を1,213,787千円に増資 |
平成13年7月 | 台湾新竹市に台湾事務所を開設(平成21年1月に閉鎖) |
平成14年7月 | 生産技術研究棟(京都市伏見区)の改修工事完了 |
平成15年12月 | (独)ロバート・ボッシュ社よりシリコンの高速ディープエッチング技術を導入 |
平成16年11月 | 中国上海市に上海事務所を開設 |
平成16年12月 | 株式会社サムコインターナショナル研究所からサムコ 株式会社へ社名を変更 |
平成16年12月 | 株式売買単位を1,000株から100株に変更 |
平成16年12月 | 日本証券業協会への店頭登録を取消し、ジャスダック証券取引所に株式を上場 |
平成17年9月 | 英国ケンブリッジ大学との共同開発「強誘電体ナノチューブの量産技術」を英企業に技術供与 |
平成18年3月 | 製品サービスセンターを新設 |
平成18年9月 | 中国清華大学とナノ加工技術の共同研究で調印 |
平成20年3月 | 京都市伏見区に第二研究開発棟を開設 |
平成20年10月 | 台湾に保守サービスのための現地法人「莎姆克股份有限公司」を設立 |
平成21年1月 | 「莎姆克股份有限公司」が営業を開始 |
平成22年4月 | ジャスダック証券取引所と大阪証券取引所の合併に伴い、大阪証券取引所JASDAQ市場(現 東京証券取引所JASDAQ(スタンダード))に上場 |
平成22年8月 | 米国ノースカロライナ州に米国東部事務所を開設(平成26年5月にニューヨーク州へ移転、平成29年1月にニュージャージー州へ移転) |
平成22年9月 | 中国北京市に北京事務所を開設 |
平成24年5月 | ベトナムホーチミン市にベトナムサービスオフィスを開設(平成30年9月に閉鎖) |
平成25年7月 | 東京証券取引所JASDAQ(スタンダード)から市場第二部へ市場変更 |
平成25年10月 | SiCパワーデバイス向け本格量産用ドライエッチング装置RIE-600ⅰPCの開発、販売を開始 |
平成25年11月 | MEMS向け本格量産用ドライエッチング装置RIE-800ⅰPBCの開発、販売を開始 |
平成26年1月 | 東京証券取引所市場第二部から同第一部銘柄に指定 |
平成26年3月 | 米国Valence Process Equipment,Inc.とMOCVD装置の販売代理店契約を締結 |
平成26年5月 | リヒテンシュタイン公国UCP Processing Ltd.の株式90%を取得し子会社化(samco-ucp AGに社名変更) |
平成26年9月 | 福岡市中央区に福岡営業所を開設 |
平成27年9月 | 公募増資により資本金を1,663,687千円に増資 |
平成27年12月 | スウェーデンEpiluvac ABとSiCエピタキシャル成膜装置の販売代理店契約を締結 電子デバイス向け原子層堆積装置AL-1の開発、販売を開始 |
平成28年6月 | 第二生産技術棟(京都市伏見区)が完成 |
平成28年8月 | マレーシアにマレーシア事務所を開設 |
平成28年9月 | Aqua Plasmaを用いたプラズマ洗浄装置AQ-2000の開発、販売を開始 |
平成30年12月 | ドライエッチング装置RIE-200iPNの開発、販売を開始 |