訂正有価証券報告書-第37期(平成28年4月1日-平成29年3月31日)

研究開発につきましては、技術革新と市場環境変化の激しい半導体、FPD、LED、太陽電池製造装置業界にあって、各ユーザーとの情報交換・技術交流を通して今後の技術発展動向とユーザーニーズを先取りすることを重視し、研究開発をすすめております。
現在の研究開発は、当社の技術担当部門が中心となり、日本・米国・欧州・アジアの各拠点で進めております。
当連結会計年度の研究開発費は1,736百万円であります。なお、研究開発費については、セグメント別に表示することは困難であるため総額で表示しております。
その主な成果は次のとおりであります。
(1)装置関連事業
①真空シール
新磁性流体の評価およびデバイスの改良設計を行い、従来品と比較してシール性能の長寿命化に取り組み、顧客から好評を得ております。さらに、耐薬品性能にも着目し、シール性能が大幅に向上するように製品設計を行っております。顧客満足度を向上させるべく、技術向上および製品品質向上を積極的に実施しております。
②セラミックス製品
ファインセラミックス事業については、次世代エッチング装置向けセラミックス製品用の接合技術および表面加工技術の開発を推進中です。マシナブルセラミックス事業では、半導体検査装置向けセラミックスガイド板の機械加工技術の更なる微細化、高アスペクト化を進めました。また、レーザーでの角穴加工技術についても高精度化を進め、主要顧客へのサンプル出荷を進めております。
CVD-SiC事業については、半導体装置用チャンバー部品の量産技術の開発に取り組み、大型装置での量産化を進めました。また、航空、原子力、自動車用途向けの製品展開を開始いたしました。
③真空蒸着装置
処理能力を大幅に向上させた真空蒸着装置を開発し、欧州、米国向けに販売しております。また、装置に用いられるエレクトロン・ビームガンを日本、中国を含むアジア市場向けに投入しております。
(2)太陽電池関連事業
①太陽電池用結晶製造装置
これまで蓄積した結晶加工技術を応用し、結晶基板スライス装置、結晶基板研磨装置等を開発し、結晶加工関連製品の販売強化を実施しております。特に、長年の技術開発で培ってきた単結晶引上炉についても、更なる技術革新を実施しており、半導体分野への応用を実現しております。
②太陽電池用ウエーハ
高変換効率・コストダウンの要請が強く、パートナーシップを考慮した受託製造事業化へシフトしています。
③石英坩堝
これまで販売してきた小口径型の石英坩堝については、顧客満足度を向上させるべく、積極的な品質改善を実施しております。さらに、大口径型の石英坩堝の需要も多く、この開発にも積極的に取り組んでおります。
(3)電子デバイス事業
①サーモモジュール
製品性能改善を引き続き実施しており、熱電材料開発のほか、新たなモジュール接合技術にも取り組みました。新規に開発されたモジュールについては、順調に新たな市場で評価を頂いております。これまで販売してまいりましたモジュールについても、引き続きアジア各国市場に向けに堅調に推移しており、品質維持と技術改良に積極的に取り組んでおります。
②磁性流体
真空シールをはじめとする各種シール用、スピーカ大手顧客、バイブレーション顧客からの技術的な要望に積極的に対応し、開発・製造拠点の刷新を行い、顧客満足度の向上に努めております。さらに、磁性流体(磁性ナノ粒子)技術を利用した新たな分野への製品展開を実施するため、国内外の複数の協力会社と連携し、バイオメディカル、熱輸送媒体材、新素材技術の開発ならびに応用デバイス分野への事業展開を積極的に進めております。
③パワー半導体用基板
日本及び欧州の顧客の要求仕様を満たす為に、パワーデバイス向けアルミナ基板の性能向上及び品質改善に取り組んでおり、顧客の評価を得ております。さらに、新たなパワーデバイス用セラミック基板の開発にも積極的に取り組んでおります。