有価証券報告書-第20期(平成30年1月1日-平成30年12月31日)

【提出】
2019/03/28 15:00
【資料】
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【項目】
118項目

研究開発活動

当社グループは、顧客の視点に立って価値ある創造と差別化を推し進め、競争優位性を高めることにより、顧客に対して付加価値の高い製品を提案していくことを基本方針としており、次世代のニーズを先取りして半導体基板の技術開発を進めるとともに、量産品の品質改善、及び収益向上のための300mmを中心とした生産性改善、コスト合理化も引き続き取り組んでおります。
当連結会計年度は、以下を開発方針として、『技術で世界一の会社』を目指して研究開発活動を進めてまいりました。
①プロアクティブ活動の展開、企画・設計力強化、サプライヤーチェーン強化による最先端技術の構築
②品質工学、BIツールの積極活用による、業務改革の全社展開
③人材育成システム活用による技術者個々の能力向上と、それに基づく業務の効率化・高品質化
④グローバルに活躍できる技術者育成の継続
なお、将来技術の開発項目に関しましては、当社グループのリソース以外にも、委託研究または共同研究という形で外部機関を活用した取り組みを継続しております。
当連結会計年度の研究開発費総額は、5,661百万円であり、連結売上高の1.7%であります。
なお、当社グループの事業は「高純度シリコン」のみの単一セグメントであり、セグメント情報に関連付けては記載しておりません。