半期報告書-第47期(2025/08/01-2026/07/31)
文中の将来に関する事項は、当中間会計期間の末日現在において判断したものであります。
(1) 経営成績の状況
当中間会計期間における世界経済は、各国の貿易政策の変更に伴う景気減速懸念がある一方で、AIをはじめとするテクノロジー関連分野への投資拡大や、概ね緩和的な財政・金融政策に支えられ、緩やかながらも堅調に推移いたしました。
半導体等電子部品業界におきましては、AI関連需要が引き続き拡大するとともに、スマートフォン等の需要も緩やかな回復基調となりました。当社が関連する化合物半導体市場におきましても、AI関連投資が進み、特にデータセンター向けの需要が拡大しております。当社の製造装置は、データセンターにおける通信の高速化および低消費電力化に寄与する光デバイスの製造工程に使用されており、旺盛な需要を受け受注高は急拡大し、売上高も伸びました。
このような状況の下、当中間会計期間における業績は、売上高が4,587百万円(前年同期比11.3%増)、営業利益は1,028百万円(前年同期比3.8%増)、経常利益は1,073百万円(前年同期比6.1%増)、中間純利益は751百万円(前年同期比5.1%増)となりました。
主な品目別の売上高は、次のとおりであります。なお、当社は半導体等電子部品製造装置の製造及び販売事業の単一セグメントであるためセグメント毎の記載はしておりません。
(CVD装置)
「化合物半導体分野」では半導体レーザーやLEDの加工用途、「電子部品分野」ではMEMSの加工用途での販売があり、売上高は640百万円(前年同期比15.0%減)となりました。
(エッチング装置)
「化合物半導体分野」では半導体レーザーの加工用途、「電子部品分野」では高周波フィルターの加工用途、「その他」では表面処理用途での販売があり、売上高は2,905百万円(前年同期比15.2%増)となりました。
(洗浄装置)
「電子部品分野」では量子デバイスの加工用途、「ヘルスケア関連」では各種表面処理用途での販売があり、売上高は355百万円(前年同期比59.2%増)となりました。
(部品・メンテナンス)
既存装置のメンテナンスや部品販売、装置の移設・改造などで、売上高は686百万円(前年同期比10.3%増)となりました。
(2) 財政状態の分析
(流動資産)
当中間会計期間末における流動資産の残高は、13,502百万円で前事業年度末に比べ980百万円増加いたしました。売掛金及び契約資産が595百万円減少した一方、現金及び預金が1,229百万円増加したのが主な要因であります。
(固定資産)
当中間会計期間末における固定資産の残高は、5,283百万円で前事業年度末に比べ30百万円増加いたしました。保有株式の時価変動により投資有価証券が83百万円増加したのが主な要因であります。
(流動負債)
当中間会計期間末における流動負債の残高は、3,914百万円で前事業年度末に比べ699百万円増加いたしました。契約負債が849百万円増加したのが主な要因であります。
(固定負債)
当中間会計期間末における固定負債の残高は、986百万円で前事業年度末に比べ14百万円減少いたしました。長期借入金が19百万円減少したのが主な要因であります。
(純資産)
当中間会計期間末における純資産の残高は、13,884百万円で前事業年度末に比べ326百万円増加いたしました。繰越利益剰余金が269百万円増加したのが主な要因であります。自己資本比率は73.9%と前事業年度末に比べ2.4ポイント下降いたしました。
(3) キャッシュ・フローの状況
当中間会計期間における現金及び現金同等物(以下「資金」という)は、前事業年度末に比べ1,217百万円増加し、6,239百万円(前事業年度末比24.2%増)となりました。
当中間会計期間における各キャッシュ・フローの状況は、以下のとおりであります。
(営業活動によるキャッシュ・フロー)
営業活動の結果取得した資金は1,753百万円(前年同期に使用した資金は110百万円)となりました。これは主に税引前中間純利益が1,073百万円、契約負債の増加が849百万円に対して法人税等の支払額が397百万円、棚卸資産の増加が213百万円であったことによるものであります。
(投資活動によるキャッシュ・フロー)
投資活動の結果使用した資金は43百万円(前年同期に使用した資金は395百万円)となりました。その主な内容は、定期預金の預入による支出が1,465百万円に対して、定期預金の払戻による収入が1,459百万円であったことによるものであります。
(財務活動によるキャッシュ・フロー)
財務活動の結果使用した資金は503百万円(前年同期に使用した資金は382百万円)となりました。これは主に配当金の支払額が481百万円であったことによるものであります。
(4) 経営方針・経営戦略等
当中間会計期間において、当社が定めている経営方針・経営戦略等について重要な変更はありません。
(5) 優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題
当中間会計期間において、当社が優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題について重要な変更はありません。
(6) 研究開発活動
当中間会計期間における研究開発費の金額は、180百万円であります。
なお、当中間会計期間において、当社の研究開発活動に重要な変更はありません。
(7) 主要な設備
前事業年度末において計画中であった主要な設備の新設、休止、大規模改修、除却、売却等について、当中間会計期間に著しい変更があったものは、次のとおりであります。
(注)1.先端技術開発棟は、第45期有価証券報告書では「研究開発センター別館」として記載しております。
2.生産能力は、定量的な数字では表し難いので記載を省略しております。
(8) 経営成績に重要な影響を与える要因
当中間会計期間において、経営成績に重要な影響を与える要因について重要な変更はありません。
(1) 経営成績の状況
当中間会計期間における世界経済は、各国の貿易政策の変更に伴う景気減速懸念がある一方で、AIをはじめとするテクノロジー関連分野への投資拡大や、概ね緩和的な財政・金融政策に支えられ、緩やかながらも堅調に推移いたしました。
半導体等電子部品業界におきましては、AI関連需要が引き続き拡大するとともに、スマートフォン等の需要も緩やかな回復基調となりました。当社が関連する化合物半導体市場におきましても、AI関連投資が進み、特にデータセンター向けの需要が拡大しております。当社の製造装置は、データセンターにおける通信の高速化および低消費電力化に寄与する光デバイスの製造工程に使用されており、旺盛な需要を受け受注高は急拡大し、売上高も伸びました。
このような状況の下、当中間会計期間における業績は、売上高が4,587百万円(前年同期比11.3%増)、営業利益は1,028百万円(前年同期比3.8%増)、経常利益は1,073百万円(前年同期比6.1%増)、中間純利益は751百万円(前年同期比5.1%増)となりました。
主な品目別の売上高は、次のとおりであります。なお、当社は半導体等電子部品製造装置の製造及び販売事業の単一セグメントであるためセグメント毎の記載はしておりません。
(CVD装置)
「化合物半導体分野」では半導体レーザーやLEDの加工用途、「電子部品分野」ではMEMSの加工用途での販売があり、売上高は640百万円(前年同期比15.0%減)となりました。
(エッチング装置)
「化合物半導体分野」では半導体レーザーの加工用途、「電子部品分野」では高周波フィルターの加工用途、「その他」では表面処理用途での販売があり、売上高は2,905百万円(前年同期比15.2%増)となりました。
(洗浄装置)
「電子部品分野」では量子デバイスの加工用途、「ヘルスケア関連」では各種表面処理用途での販売があり、売上高は355百万円(前年同期比59.2%増)となりました。
(部品・メンテナンス)
既存装置のメンテナンスや部品販売、装置の移設・改造などで、売上高は686百万円(前年同期比10.3%増)となりました。
(2) 財政状態の分析
(流動資産)
当中間会計期間末における流動資産の残高は、13,502百万円で前事業年度末に比べ980百万円増加いたしました。売掛金及び契約資産が595百万円減少した一方、現金及び預金が1,229百万円増加したのが主な要因であります。
(固定資産)
当中間会計期間末における固定資産の残高は、5,283百万円で前事業年度末に比べ30百万円増加いたしました。保有株式の時価変動により投資有価証券が83百万円増加したのが主な要因であります。
(流動負債)
当中間会計期間末における流動負債の残高は、3,914百万円で前事業年度末に比べ699百万円増加いたしました。契約負債が849百万円増加したのが主な要因であります。
(固定負債)
当中間会計期間末における固定負債の残高は、986百万円で前事業年度末に比べ14百万円減少いたしました。長期借入金が19百万円減少したのが主な要因であります。
(純資産)
当中間会計期間末における純資産の残高は、13,884百万円で前事業年度末に比べ326百万円増加いたしました。繰越利益剰余金が269百万円増加したのが主な要因であります。自己資本比率は73.9%と前事業年度末に比べ2.4ポイント下降いたしました。
(3) キャッシュ・フローの状況
当中間会計期間における現金及び現金同等物(以下「資金」という)は、前事業年度末に比べ1,217百万円増加し、6,239百万円(前事業年度末比24.2%増)となりました。
当中間会計期間における各キャッシュ・フローの状況は、以下のとおりであります。
(営業活動によるキャッシュ・フロー)
営業活動の結果取得した資金は1,753百万円(前年同期に使用した資金は110百万円)となりました。これは主に税引前中間純利益が1,073百万円、契約負債の増加が849百万円に対して法人税等の支払額が397百万円、棚卸資産の増加が213百万円であったことによるものであります。
(投資活動によるキャッシュ・フロー)
投資活動の結果使用した資金は43百万円(前年同期に使用した資金は395百万円)となりました。その主な内容は、定期預金の預入による支出が1,465百万円に対して、定期預金の払戻による収入が1,459百万円であったことによるものであります。
(財務活動によるキャッシュ・フロー)
財務活動の結果使用した資金は503百万円(前年同期に使用した資金は382百万円)となりました。これは主に配当金の支払額が481百万円であったことによるものであります。
(4) 経営方針・経営戦略等
当中間会計期間において、当社が定めている経営方針・経営戦略等について重要な変更はありません。
(5) 優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題
当中間会計期間において、当社が優先的に対処すべき事業上及び財務上の課題について重要な変更はありません。
(6) 研究開発活動
当中間会計期間における研究開発費の金額は、180百万円であります。
なお、当中間会計期間において、当社の研究開発活動に重要な変更はありません。
(7) 主要な設備
前事業年度末において計画中であった主要な設備の新設、休止、大規模改修、除却、売却等について、当中間会計期間に著しい変更があったものは、次のとおりであります。
| 事業所名 (所在地) | 設備の内容 | 区分 | 取得価額 (百万円) | 資金調達 方法 | 完了年月 | 増加能力 |
| 先端技術開発棟 (注)1 (京都市伏見区) | 土地、建物 (2022年4月取得の田中宮用地2に建設) | 新設 | 721 | 自己資金 及び借入金 | 2025年9月 | (注)2 |
(注)1.先端技術開発棟は、第45期有価証券報告書では「研究開発センター別館」として記載しております。
2.生産能力は、定量的な数字では表し難いので記載を省略しております。
(8) 経営成績に重要な影響を与える要因
当中間会計期間において、経営成績に重要な影響を与える要因について重要な変更はありません。