有価証券報告書-第111期(平成31年1月1日-令和1年12月31日)

当社及び連結子会社では、当連結会計年度は、総額50,216百万円の設備投資を実施した。
(石油化学)
当セグメントにおける設備投資額は、4,404百万円であった。
(化学品)
当セグメントにおける設備投資額は、11,412百万円であった。
(エレクトロニクス)
当社において、パワー半導体用SiCエピタキシャルウェハー高品質グレード品の生産能力増強を完了した。
当セグメントにおける設備投資額は、10,474百万円であった。
(無機)
当セグメントにおける設備投資額は、11,685百万円であった。
(アルミニウム)
連結子会社において、ベトナム第三生産拠点設立及び既存缶蓋ラインの生産能力増強を行った。
当セグメントにおける設備投資額は、8,464百万円であった。
(その他・調整額)
当社において、統合基幹業務システム能力増強を行った。
当セグメントにおける設備投資額は、3,777百万円であった。
所要資金については、自己資金及び借入金等をもって充当した。
当連結会計年度においては、経常的な設備更新のための除却を除き、重要な設備の除却はなかった。