四半期報告書-第115期第1四半期(平成30年7月1日-平成30年9月30日)
(1)財政状態及び経営成績の状況
当第1四半期連結累計期間におけるわが国経済は、設備投資が増加し、企業収益が改善するなど、緩やかに回復してきました。米国では、個人消費や設備投資の増加などにより景気の回復が続いてきました。欧州では、消費が増加し、生産や輸出が持ち直すなど、景気は緩やかに回復してきました。中国では、各種政策効果もあり、景気の持ち直しの動きが続いてきました。
当社グループを取り巻くエレクトロニクス市場においては、データセンター向けサーバー需要の増加等によるメモリ需要の拡大を受け、半導体メモリメーカーの設備投資が継続しました。足元では一部に新規設備投資の延期の動きが出てまいりましたが、中長期的にはスマート化社会の進展に向けた投資が継続するものと見られています。一方、フラットパネルディスプレイ(FPD)業界においては、テレビ用パネルの大型化、高精細化に伴う大型液晶パネル製造向けの設備投資が中国を中心として高水準で継続しました。スマートフォン向け有機ELパネルの設備投資は韓国での投資抑制はあるものの、他地域での設備投資は継続しました。
このような状況において、当第1四半期連結累計期間につきましては、受注高は777億42百万円(前年同期比32億15百万円(4.0%)減)、売上高は617億28百万円(同7億85百万円(1.3%)増)となりました。また、損益につきましては、営業利益は86億71百万円(同2億29百万円(2.6%)減)、経常利益は89億77百万円(同1億97百万円(2.1%)減)となり、親会社株主に帰属する四半期純利益につきましては、60億83百万円(同2億50百万円(4.0%)減)となりました。
セグメントの業績は、次のとおりです。
「真空機器事業」
真空機器事業を品目別に見ると次のとおりです。
(FPD及びPV製造装置)
FPD製造装置の受注高は、前年度下半期に受注が一時的に低調となりましたが、当四半期においては回復し、中国を中心としたテレビ向け大型液晶製造装置を中心に前年同期に近い受注を計上しました。また、売上高は有機EL製造装置も寄与し堅調に推移し、前年同期並みとなりました。
(半導体及び電子部品製造装置)
半導体関連は、NANDフラッシュメモリやDRAM、次世代不揮発性メモリ向けスパッタリング装置や自然酸化膜除去装置に加え、ロジック向けスパッタリング装置の受注寄与などにより増加、電子部品関連は、モバイル機器向け高機能デバイス製造装置やパワー半導体向け製造装置などが増加し、前年同期を上回る受注高、売上高となりました。
(コンポーネント)
有機EL製造装置に搭載するクライオポンプをはじめ、FPD、半導体、電子部品業界や自動車関連向け真空ポンプ、計測機器が堅調に推移し、受注高、売上高ともに前年同期を上回りました。
(一般産業用装置)
自動車部品製造用真空熱処理炉や漏れ検査装置などを中心に売上高は前年同期を上回りました。一方受注高は中国における高機能磁石製造用投資の延期等もあり低調な結果となりました。
その結果、真空機器事業の受注高は696億13百万円、受注残高は1,091億15百万円、売上高は544億20百万円となり、80億85百万円の営業利益となりました。
「真空応用事業」
真空応用事業を品目別に見ると次のとおりです。
(材料)
主に液晶ディスプレイ用スパッタリングターゲットを中心に前年同期並みの受注、売上を計上しました。
(その他)
表面分析機器関連は、前年度に引き続き低調な売上となりましたが、マスクブランクス関連は、高精細、高機能ディスプレイパネルや車載及び産業用半導体需要の増加を受け、堅調に推移しました。
その結果、真空応用事業の受注高は81億29百万円、受注残高は65億68百万円、売上高は73億8百万円となり、6億8百万円の営業利益となりました。
なお、上記金額には消費税等は含まれておりません。
また、当第1四半期連結会計期間末の財政状態は以下のとおりとなりました。
当第1四半期連結会計期間末の資産合計は、前連結会計年度末に比べ、69億72百万円減少となりました。主な要因は、投資有価証券が65億89百万円減少したこと、受取手形及び売掛金が26億34百万円減少したこと、一方で、たな卸資産が25億9百万円増加したことなどであります。
負債合計は、前連結会計年度末に比べ、41億20百万円減少となりました。主な要因は、未払法人税等が20億74百万円減少したこと、長期借入金が15億31百万円減少したこと、前受金が7億37百万円減少したこと、一方で、支払手形及び買掛金が9億67百万円増加したことなどであります。
純資産合計は、前連結会計年度末に比べ、28億52百万円減少となりました。主な要因は、その他の包括利益累計額が38億64百万円減少したこと、一方で、利益剰余金が11億60百万円増加したことなどであります。
以上の結果、当第1四半期連結会計期間末の自己資本比率は49.9%となりました。
なお、「『税効果会計に係る会計基準』の一部改正」(企業会計基準第28号 平成30年2月16日)等を当第1四半期連結会計期間の期首から適用しており、財政状態については遡及処理後の前連結会計年度末の数値で比較を行っております。
(2)キャッシュ・フローの状況
当第1四半期連結累計期間末における現金及び現金同等物の残高は、前連結会計年度末に比べ、7億75百万円増加し、551億24百万円となりました。各キャッシュ・フローの状況とそれらの要因は以下のとおりです。
(営業活動によるキャッシュ・フロー)
税金等調整前四半期純利益、減価償却費、売上債権の減少、仕入債務の増加などのプラス要因に対し、たな卸資産の増加、前受金の減少などのマイナス要因により、107億19百万円の収入(前年同期は123億51百万円の収入)となりました。
(投資活動によるキャッシュ・フロー)
有形及び無形固定資産の取得による支出などにより、32億17百万円の支出(前年同期は21億42百万円の支出)となりました。
(財務活動によるキャッシュ・フロー)
長期借入金の減少、配当金の支払などにより、71億64百万円の支出(前年同期は49億11百万円の支出)となりました。
(3)経営方針・経営戦略等
当第1四半期連結累計期間において、当社グループが定めている経営方針・経営戦略等について重要な変更はありません。
(4)事業上及び財務上の対処すべき課題
当第1四半期連結累計期間において、当社グループが対処すべき課題について重要な変更はありません。
(5)研究開発活動
当第1四半期連結累計期間におけるグループ全体の研究開発活動の金額は、20億94百万円であります。
なお、当第1四半期連結累計期間において、当社グループの研究開発活動の状況に重要な変更はありません。
当第1四半期連結累計期間におけるわが国経済は、設備投資が増加し、企業収益が改善するなど、緩やかに回復してきました。米国では、個人消費や設備投資の増加などにより景気の回復が続いてきました。欧州では、消費が増加し、生産や輸出が持ち直すなど、景気は緩やかに回復してきました。中国では、各種政策効果もあり、景気の持ち直しの動きが続いてきました。
当社グループを取り巻くエレクトロニクス市場においては、データセンター向けサーバー需要の増加等によるメモリ需要の拡大を受け、半導体メモリメーカーの設備投資が継続しました。足元では一部に新規設備投資の延期の動きが出てまいりましたが、中長期的にはスマート化社会の進展に向けた投資が継続するものと見られています。一方、フラットパネルディスプレイ(FPD)業界においては、テレビ用パネルの大型化、高精細化に伴う大型液晶パネル製造向けの設備投資が中国を中心として高水準で継続しました。スマートフォン向け有機ELパネルの設備投資は韓国での投資抑制はあるものの、他地域での設備投資は継続しました。
このような状況において、当第1四半期連結累計期間につきましては、受注高は777億42百万円(前年同期比32億15百万円(4.0%)減)、売上高は617億28百万円(同7億85百万円(1.3%)増)となりました。また、損益につきましては、営業利益は86億71百万円(同2億29百万円(2.6%)減)、経常利益は89億77百万円(同1億97百万円(2.1%)減)となり、親会社株主に帰属する四半期純利益につきましては、60億83百万円(同2億50百万円(4.0%)減)となりました。
セグメントの業績は、次のとおりです。
「真空機器事業」
真空機器事業を品目別に見ると次のとおりです。
(FPD及びPV製造装置)
FPD製造装置の受注高は、前年度下半期に受注が一時的に低調となりましたが、当四半期においては回復し、中国を中心としたテレビ向け大型液晶製造装置を中心に前年同期に近い受注を計上しました。また、売上高は有機EL製造装置も寄与し堅調に推移し、前年同期並みとなりました。
(半導体及び電子部品製造装置)
半導体関連は、NANDフラッシュメモリやDRAM、次世代不揮発性メモリ向けスパッタリング装置や自然酸化膜除去装置に加え、ロジック向けスパッタリング装置の受注寄与などにより増加、電子部品関連は、モバイル機器向け高機能デバイス製造装置やパワー半導体向け製造装置などが増加し、前年同期を上回る受注高、売上高となりました。
(コンポーネント)
有機EL製造装置に搭載するクライオポンプをはじめ、FPD、半導体、電子部品業界や自動車関連向け真空ポンプ、計測機器が堅調に推移し、受注高、売上高ともに前年同期を上回りました。
(一般産業用装置)
自動車部品製造用真空熱処理炉や漏れ検査装置などを中心に売上高は前年同期を上回りました。一方受注高は中国における高機能磁石製造用投資の延期等もあり低調な結果となりました。
その結果、真空機器事業の受注高は696億13百万円、受注残高は1,091億15百万円、売上高は544億20百万円となり、80億85百万円の営業利益となりました。
「真空応用事業」
真空応用事業を品目別に見ると次のとおりです。
(材料)
主に液晶ディスプレイ用スパッタリングターゲットを中心に前年同期並みの受注、売上を計上しました。
(その他)
表面分析機器関連は、前年度に引き続き低調な売上となりましたが、マスクブランクス関連は、高精細、高機能ディスプレイパネルや車載及び産業用半導体需要の増加を受け、堅調に推移しました。
その結果、真空応用事業の受注高は81億29百万円、受注残高は65億68百万円、売上高は73億8百万円となり、6億8百万円の営業利益となりました。
なお、上記金額には消費税等は含まれておりません。
また、当第1四半期連結会計期間末の財政状態は以下のとおりとなりました。
当第1四半期連結会計期間末の資産合計は、前連結会計年度末に比べ、69億72百万円減少となりました。主な要因は、投資有価証券が65億89百万円減少したこと、受取手形及び売掛金が26億34百万円減少したこと、一方で、たな卸資産が25億9百万円増加したことなどであります。
負債合計は、前連結会計年度末に比べ、41億20百万円減少となりました。主な要因は、未払法人税等が20億74百万円減少したこと、長期借入金が15億31百万円減少したこと、前受金が7億37百万円減少したこと、一方で、支払手形及び買掛金が9億67百万円増加したことなどであります。
純資産合計は、前連結会計年度末に比べ、28億52百万円減少となりました。主な要因は、その他の包括利益累計額が38億64百万円減少したこと、一方で、利益剰余金が11億60百万円増加したことなどであります。
以上の結果、当第1四半期連結会計期間末の自己資本比率は49.9%となりました。
なお、「『税効果会計に係る会計基準』の一部改正」(企業会計基準第28号 平成30年2月16日)等を当第1四半期連結会計期間の期首から適用しており、財政状態については遡及処理後の前連結会計年度末の数値で比較を行っております。
(2)キャッシュ・フローの状況
当第1四半期連結累計期間末における現金及び現金同等物の残高は、前連結会計年度末に比べ、7億75百万円増加し、551億24百万円となりました。各キャッシュ・フローの状況とそれらの要因は以下のとおりです。
(営業活動によるキャッシュ・フロー)
税金等調整前四半期純利益、減価償却費、売上債権の減少、仕入債務の増加などのプラス要因に対し、たな卸資産の増加、前受金の減少などのマイナス要因により、107億19百万円の収入(前年同期は123億51百万円の収入)となりました。
(投資活動によるキャッシュ・フロー)
有形及び無形固定資産の取得による支出などにより、32億17百万円の支出(前年同期は21億42百万円の支出)となりました。
(財務活動によるキャッシュ・フロー)
長期借入金の減少、配当金の支払などにより、71億64百万円の支出(前年同期は49億11百万円の支出)となりました。
(3)経営方針・経営戦略等
当第1四半期連結累計期間において、当社グループが定めている経営方針・経営戦略等について重要な変更はありません。
(4)事業上及び財務上の対処すべき課題
当第1四半期連結累計期間において、当社グループが対処すべき課題について重要な変更はありません。
(5)研究開発活動
当第1四半期連結累計期間におけるグループ全体の研究開発活動の金額は、20億94百万円であります。
なお、当第1四半期連結累計期間において、当社グループの研究開発活動の状況に重要な変更はありません。