当連結会計年度の設備投資につきましては、中期経営計画の達成に向け、売上拡大にともなう増産への対応と先端技術開発を加速させるため、技術革新と市場の拡大が期待される半導体製造装置事業の分野を中心に、評価用機械装置や研究開発用機械装置等の設備投資を実施いたしました。
当社及び東京エレクトロン九州㈱におきましては、新製品の開発を促進するため、クリーンルームの改修工事を実施しました。また、東京エレクトロン宮城㈱におきましては、物流拠点の集約によるリソースの効率活用を目的として物流棟を建設し、技術開発力の強化を目的として開発棟建設に着工しました。さらに、Tokyo Electron Korea Ltd.におきましては、新たな事務所開設のため、韓国京畿道平澤市に土地を取得しました。
これらの結果、当連結会計年度の設備投資額は456億円となりました。
主な内訳としましては、当社56億円、東京エレクトロン宮城㈱109億円、東京エレクトロン テクノロジーソリューションズ㈱91億円、東京エレクトロン九州㈱89億円、Tokyo Electron Korea Ltd.51億円であります。
なお、生産・販売能力に重要な影響を及ぼす設備の除却、売却はありません。