有価証券報告書-第121期(平成28年4月1日-平成29年3月31日)

当社グループでは、当社が属するエレクトロニクス市場における急速な技術革新や販売競争の激化に的確に対応するため、当連結会計年度において、167,631百万円の設備投資を実施しました。
そのうち、受動部品部門においては、68,605百万円の設備投資を実施しました。これらは事業基盤の強化及びインダクティブデバイス製品の増産を主たる目的としております。
磁気応用製品部門においては、14,954百万円の設備投資を実施しました。主に、HDD用高密度次世代ヘッドの開発と生産のための設備投資です。
フィルム応用製品部門においては、55,834百万円の設備投資を実施しました。主に、リチウムポリマー電池増産のための設備投資です。
その他部門においては、7,246百万円の設備投資を実施しました。
本社・開発機能においては、20,992百万円の設備投資を実施しました。主として、工場新設、社内ITインフラ構築及び基礎研究開発のための投資です。